Počet záznamů: 1
Imaging of thermal treated thin films on silicon substrate in the scanning low energy electron microscope
- 1.
SYSNO ASEP 0350672 Druh ASEP C - Konferenční příspěvek (mezinárodní konf.) Zařazení RIV D - Článek ve sborníku Název Imaging of thermal treated thin films on silicon substrate in the scanning low energy electron microscope Tvůrce(i) Zobačová, Jitka (UPT-D) RID, ORCID
Mikmeková, Šárka (UPT-D) RID, SAI, ORCID
Polčák, J. (CZ)
Frank, Luděk (UPT-D) RID, SAI, ORCIDCelkový počet autorů 4 Zdroj.dok. Proceedings of the 12th International Seminar on Recent Trends in Charged Particle Optics and Surface Physics Instrumentation. - Brno : Institute of Scientific Instruments AS CR, v.v.i, 2010 / Mika F. - ISBN 978-80-254-6842-5 Rozsah stran s. 69-70 Poč.str. 2 s. Akce International Seminar on Recent Trends in Charged Particle Optics and Surface Physics Instrumentation /12./ Datum konání 31.05.2010-04.06.2010 Místo konání Skalský dvůr Země CZ - Česká republika Typ akce WRD Jazyk dok. eng - angličtina Země vyd. CZ - Česká republika Klíč. slova thin films ; SLEEM ; Si substrate Vědní obor RIV JA - Elektronika a optoelektronika, elektrotechnika CEP IAA100650803 GA AV ČR - Akademie věd CEZ AV0Z20650511 - UPT-D (2005-2011) UT WOS 000290773700027 Anotace Structure of thin films usually requires to be examined on microscopic level. The research topics like growth and stability of thin films, phase transitions and separation, crystallization, diffusion and defect formation has a need for LEED or XPS as techniques adequate for investigation of atomic transport processes on short length scales. The low energy electron microscopy is a complementary solution for imaging of samples with special concern for knowledge of surface physics and material science. In this contribution the microscopic examination of as-deposited and thermal treated thin films on Si substrates is performed. Pracoviště Ústav přístrojové techniky Kontakt Martina Šillerová, sillerova@ISIBrno.Cz, Tel.: 541 514 178 Rok sběru 2011
Počet záznamů: 1