Počet záznamů: 1
Determination of proximity effect forward scattering range parameter in e-beam lithography
- 1.
SYSNO ASEP 0350671 Druh ASEP C - Konferenční příspěvek (mezinárodní konf.) Zařazení RIV D - Článek ve sborníku Název Determination of proximity effect forward scattering range parameter in e-beam lithography Tvůrce(i) Urbánek, Michal (UPT-D) RID
Kolařík, Vladimír (UPT-D) RID, ORCID, SAI
Král, Stanislav (UPT-D) RID, SAI
Dvořáková, Marie (UPT-D)Celkový počet autorů 4 Zdroj.dok. Proceedings of the 12th International Seminar on Recent Trends in Charged Particle Optics and Surface Physics Instrumentation. - Brno : Institute of Scientific Instruments AS CR, v.v.i, 2010 / Mika F. - ISBN 978-80-254-6842-5 Rozsah stran s. 67-68 Poč.str. 2 s. Akce International Seminar on Recent Trends in Charged Particle Optics and Surface Physics Instrumentation /12./ Datum konání 31.05.2010-04.06.2010 Místo konání Skalský dvůr Země CZ - Česká republika Typ akce WRD Jazyk dok. eng - angličtina Země vyd. CZ - Česká republika Klíč. slova electron beam lithography ; proximity effect Vědní obor RIV JA - Elektronika a optoelektronika, elektrotechnika CEP FR-TI1/576 GA MPO - Ministerstvo průmyslu a obchodu ED0017/01/01 GA MŠMT - Ministerstvo školství, mládeže a tělovýchovy CEZ AV0Z20650511 - UPT-D (2005-2011) UT WOS 000290773700026 Anotace Electron beam lithography (EBL) is a tool for generation patterns with high resolution, so it is necesessary to control critical dimensions of created patterns, because the undesired influence of adjacent regions to those exposed can occur due to the proximity effect. Proximity effect is often described by two Gaussian function, where .alpha. represents forward scattering range parameter. Consequently, we present evaluation of proximity parameter .alpha. by various method in this paper. Pracoviště Ústav přístrojové techniky Kontakt Martina Šillerová, sillerova@ISIBrno.Cz, Tel.: 541 514 178 Rok sběru 2011
Počet záznamů: 1