Počet záznamů: 1

Enhancement of YBCO thin film thermal stability under 1 ATM oxygen pressure by Intermediate Cu.sub.2./sub. O nanolayer

SYSNO ASEP	0347871
Druh ASEP	J - Článek v odborném periodiku
Zařazení RIV	J - Článek v odborném periodiku
Poddruh J	Článek ve WOS
Název	Enhancement of YBCO thin film thermal stability under 1 ATM oxygen pressure by Intermediate Cu₂ O nanolayer
Tvůrce(i)	Cheng, L. (CN) Wang, X. (CN) Yao, X. (CN) Wan, W. (CN) Li, F.H. (CN) Xiong, J. (CN) Tao, B.W. (CN) Jirsa, Miloš (FZU-D)_{RID, ORCID}
Zdroj.dok.	Journal of Physical Chemistry B. - : American Chemical Society - ISSN 1520-6106 Roč. 114, č. 22 (2010), s. 7543-7547
Poč.str.	5 s.
Jazyk dok.	eng - angličtina
Země vyd.	US - Spojené státy americké
Klíč. slova	YBCO thin films ; thermal stability ; thin film growth orientation ; temperature optical microscopy
Vědní obor RIV	BM - Fyzika pevných látek a magnetismus
CEP	ME10069 GA MŠMT - Ministerstvo školství, mládeže a tělovýchovy
CEZ	AV0Z10100520 - FZU-D (2005-2011)
UT WOS	000278301000015
DOI	10.1021/jp911806r
Anotace	The melting process of YBa₂ Cu₃ O_x (YBCO or Y123) films under oxygen atmosphere was observed in situ by means of high-temperature optical microscopy. The films were c-axis oriented, with two different in-plane orientations (denoted as 0 and 45°). In the 45°-oriented films, HRTEM detected an intermediate Cu₂ O nanolayer in the vicinity of the interface. The thermal stability of the 45°-oriented YBCO films dramatically grew with increasing oxygen partial pressure.
Pracoviště	Fyzikální ústav
Kontakt	Kristina Potocká, potocka@fzu.cz, Tel.: 220 318 579
Rok sběru	2011

Počet záznamů: 1