Počet záznamů: 1  

Double hollow cathode plasma jet-low temperature method for the TiO.sub.2-x./sub.N.sub.x./sub. photoresponding films

  1. 1.
    SYSNO ASEP0346487
    Druh ASEPJ - Článek v odborném periodiku
    Zařazení RIVJ - Článek v odborném periodiku
    Poddruh JČlánek ve WOS
    NázevDouble hollow cathode plasma jet-low temperature method for the TiO2-xNx photoresponding films
    Tvůrce(i) Kment, Štěpán (FZU-D) RID, ORCID
    Klusoň, Petr (UCHP-M) RID, ORCID, SAI
    Hubička, Zdeněk (FZU-D) RID, ORCID, SAI
    Krýsa, J. (CZ)
    Čada, Martin (FZU-D) RID, ORCID, SAI
    Gregora, Ivan (FZU-D) RID, ORCID
    Deyneka, Alexander (FZU-D)
    Remeš, Zdeněk (FZU-D) RID, ORCID
    Žabová, Hana (UCHP-M)
    Jastrabík, Lubomír (FZU-D) RID, ORCID
    Zdroj.dok.Electrochimica acta. - : Elsevier - ISSN 0013-4686
    Roč. 55, č. 5 (2010), s. 1548-1556
    Poč.str.9 s.
    Jazyk dok.eng - angličtina
    Země vyd.GB - Velká Británie
    Klíč. slovaTiO ; plasma jets
    Vědní obor RIVBM - Fyzika pevných látek a magnetismus
    CEPKAN301370701 GA AV ČR - Akademie věd
    KJB100100805 GA AV ČR - Akademie věd
    KAN400720701 GA AV ČR - Akademie věd
    GA202/09/0800 GA ČR - Grantová agentura ČR
    KJB100100703 GA AV ČR - Akademie věd
    CEZAV0Z10100522 - FZU-D (2005-2011)
    AV0Z40720504 - UCHP-M (2005-2011)
    UT WOS000275596900008
    DOI10.1016/j.electacta.2009.10.017
    AnotaceThe low temperature double hollow cathode plasma jet method for producing photoresponding thin transparent layers of TiO2-xNx is reported. The RF power magnitude was identified as the parameter affecting substantially the photoinduced properties of the produced films.
    PracovištěFyzikální ústav
    KontaktKristina Potocká, potocka@fzu.cz, Tel.: 220 318 579
    Rok sběru2011
Počet záznamů: 1  

  Tyto stránky využívají soubory cookies, které usnadňují jejich prohlížení. Další informace o tom jak používáme cookies.