Počet záznamů: 1
Double hollow cathode plasma jet-low temperature method for the TiO.sub.2-x./sub.N.sub.x./sub. photoresponding films
- 1.
SYSNO ASEP 0346487 Druh ASEP J - Článek v odborném periodiku Zařazení RIV J - Článek v odborném periodiku Poddruh J Článek ve WOS Název Double hollow cathode plasma jet-low temperature method for the TiO2-xNx photoresponding films Tvůrce(i) Kment, Štěpán (FZU-D) RID, ORCID
Klusoň, Petr (UCHP-M) RID, ORCID, SAI
Hubička, Zdeněk (FZU-D) RID, ORCID, SAI
Krýsa, J. (CZ)
Čada, Martin (FZU-D) RID, ORCID, SAI
Gregora, Ivan (FZU-D) RID, ORCID
Deyneka, Alexander (FZU-D)
Remeš, Zdeněk (FZU-D) RID, ORCID
Žabová, Hana (UCHP-M)
Jastrabík, Lubomír (FZU-D) RID, ORCIDZdroj.dok. Electrochimica acta. - : Elsevier - ISSN 0013-4686
Roč. 55, č. 5 (2010), s. 1548-1556Poč.str. 9 s. Jazyk dok. eng - angličtina Země vyd. GB - Velká Británie Klíč. slova TiO ; plasma jets Vědní obor RIV BM - Fyzika pevných látek a magnetismus CEP KAN301370701 GA AV ČR - Akademie věd KJB100100805 GA AV ČR - Akademie věd KAN400720701 GA AV ČR - Akademie věd GA202/09/0800 GA ČR - Grantová agentura ČR KJB100100703 GA AV ČR - Akademie věd CEZ AV0Z10100522 - FZU-D (2005-2011) AV0Z40720504 - UCHP-M (2005-2011) UT WOS 000275596900008 DOI 10.1016/j.electacta.2009.10.017 Anotace The low temperature double hollow cathode plasma jet method for producing photoresponding thin transparent layers of TiO2-xNx is reported. The RF power magnitude was identified as the parameter affecting substantially the photoinduced properties of the produced films. Pracoviště Fyzikální ústav Kontakt Kristina Potocká, potocka@fzu.cz, Tel.: 220 318 579 Rok sběru 2011
Počet záznamů: 1