Počet záznamů: 1
Laser-induced Dielectric Breakdown in Tetramethylgermane/tetramethyltin Mixtures: Deposition of Nanostructured Sn/Ge/C and Ge-Sn/C Films
- 1.
SYSNO ASEP 0342845 Druh ASEP J - Článek v odborném periodiku Zařazení RIV J - Článek v odborném periodiku Poddruh J Článek ve WOS Název Laser-induced Dielectric Breakdown in Tetramethylgermane/tetramethyltin Mixtures: Deposition of Nanostructured Sn/Ge/C and Ge-Sn/C Films Tvůrce(i) Křenek, Tomáš (UCHP-M)
Murafa, Nataliya (UACH-T) RID, SAI
Bezdička, Petr (UACH-T) SAI, RID, ORCID
Šubrt, Jan (UACH-T) SAI, RID
Pola, Josef (UCHP-M) RID, ORCID, SAIZdroj.dok. Applied Organometallic Chemistry. - : Wiley - ISSN 0268-2605
Roč. 24, č. 6 (2010), s. 458-463Poč.str. 6 s. Jazyk dok. eng - angličtina Země vyd. GB - Velká Británie Klíč. slova IC laser ; dielectric breakdown ; tetramethylgermane Vědní obor RIV CA - Anorganická chemie CEP LC523 GA MŠMT - Ministerstvo školství, mládeže a tělovýchovy CEZ AV0Z40720504 - UCHP-M (2005-2011) AV0Z40320502 - UACH-T (2005-2011) UT WOS 000278352200005 DOI 10.1002/aoc.1640 Anotace TEA CO2 laser-irradiation of gaseous tetramethylgermane (TMG) - tetramethyltin (TMT) mixtures in Ar results in decomposition of both organometallic compounds and in chemical vapour deposition of nanostructured films of Ge-Sn/C alloy. Pracoviště Ústav chemických procesů Kontakt Eva Jirsová, jirsova@icpf.cas.cz, Tel.: 220 390 227 Rok sběru 2011
Počet záznamů: 1