Počet záznamů: 1
Self-Assembly of Symmetric Diblock Copolymers in Planar Slits with and without Nanopatterns: Insight from Dissipative Particle Dynamics Simulations
- 1.
SYSNO ASEP 0339615 Druh ASEP J - Článek v odborném periodiku Zařazení RIV J - Článek v odborném periodiku Poddruh J Článek ve WOS Název Self-Assembly of Symmetric Diblock Copolymers in Planar Slits with and without Nanopatterns: Insight from Dissipative Particle Dynamics Simulations Tvůrce(i) Petrus, P. (CZ)
Lísal, Martin (UCHP-M) RID, ORCID, SAI
Brennan, J.K. (US)Zdroj.dok. Langmuir. - : American Chemical Society - ISSN 0743-7463
Roč. 26, č. 5 (2010), s. 3695-3709Poč.str. 15 s. Jazyk dok. eng - angličtina Země vyd. US - Spojené státy americké Klíč. slova diblock copolymer ; dissipative particle dynamics ; nanopatterned confinement Vědní obor RIV CF - Fyzikální chemie a teoretická chemie CEP GA203/08/0094 GA ČR - Grantová agentura ČR 1ET400720507 GA AV ČR - Akademie věd KAN400720701 GA AV ČR - Akademie věd CEZ AV0Z40720504 - UCHP-M (2005-2011) UT WOS 000274636900107 DOI 10.1021/la903200j Anotace We present a dissipative particle dynamics simulation study on the formation of nanostructures of symmetric diblock copolymers confined between planar surfaces with and without nanopatterns. The nanopatterned surface is mimicked by alternating portions of the surface that interact differently with the diblock copolymers. The formation of the diblock-copolymer nanostructures confined between the planar surfaces is investigated and characterized by varying the separation width and the strength of the interaction between the surfaces and the diblock copolymers. Pracoviště Ústav chemických procesů Kontakt Eva Jirsová, jirsova@icpf.cas.cz, Tel.: 220 390 227 Rok sběru 2010
Počet záznamů: 1