Počet záznamů: 1
Titania seed layers for PZT thin film growth on copper-coated Kapton films
- 1.
SYSNO ASEP 0336552 Druh ASEP J - Článek v odborném periodiku Zařazení RIV J - Článek v odborném periodiku Poddruh J Článek ve WOS Název Titania seed layers for PZT thin film growth on copper-coated Kapton films Překlad názvu Zárodečné mezivrstvy oxidu titanu určené pro růst PZT vrstev na poměděných kaptonových foliích Tvůrce(i) Suchaneck, G. (DE)
Volkonskiy, O. (DE)
Hubička, Zdeněk (FZU-D) RID, ORCID, SAI
Dejneka, Alexandr (FZU-D) RID, ORCID
Jastrabík, Lubomír (FZU-D) RID, ORCID
Adolphi, B. (DE)
Bertram, M. (DE)
Gerlach, G. (DE)Celkový počet autorů 8 Zdroj.dok. Integrated Ferroelectrics - ISSN 1058-4587
Roč. 108, č. 1 (2009), s. 57-66Poč.str. 10 s. Jazyk dok. eng - angličtina Země vyd. GB - Velká Británie Klíč. slova copper coated Kapton ; seed layer ; seed layer ; plasma deposition ; XPS Vědní obor RIV BM - Fyzika pevných látek a magnetismus CEP GC202/09/J017 GA ČR - Grantová agentura ČR KJB100100703 GA AV ČR - Akademie věd CEZ AV0Z10100522 - FZU-D (2005-2011) UT WOS 000271511000007 DOI 10.1080/10584580903324097 Anotace n this work, we investigate the deposition of crystallization-promoting amorphous titania seed layers onto Cu-coated Kapton (R) HN foils for a subsequent PZT thin film fabrication thereon. Ultrathin TiO2-x layers with controlled stoichiometry were deposited by reactive sputtering at low substrate temperatures. X-ray photoelectron spectroscopy revealed that the Ti4+ ion in the seed layer was stable against Ar+ bombardment-induced reduction while CuO was reduced to Cu2O. Adsorbed moisture, organic solvents and carbon contaminations were quickly removed by Ar+ ion bombardment. (111)-textured PZT was fabricated on seed-layer-coated flexible substrates by means of a RF-modulated plasma jet system. Pracoviště Fyzikální ústav Kontakt Kristina Potocká, potocka@fzu.cz, Tel.: 220 318 579 Rok sběru 2010
Počet záznamů: 1