Počet záznamů: 1  

Damage studies of multilayer optics for XUV free electron lasers

  1. 1.
    SYSNO ASEP0335976
    Druh ASEPC - Konferenční příspěvek (mezinárodní konf.)
    Zařazení RIVD - Článek ve sborníku
    NázevDamage studies of multilayer optics for XUV free electron lasers
    Překlad názvuPoškození mnohovrstvé optiky indukované XUV laserem s volnými elektrony
    Tvůrce(i) Louis, E. (NL)
    Khorsand, A.R. (NL)
    Sobierajski, R. (PL)
    van Hattum, E.D. (NL)
    Jurek, M. (PL)
    Klinger, D. (PL)
    Pelka, J. B. (PL)
    Juha, Libor (FZU-D) RID, ORCID, SAI
    Chalupský, Jaromír (FZU-D) RID, ORCID
    Cihelka, Jaroslav (FZU-D)
    Hájková, Věra (FZU-D) RID, ORCID
    Jastrow, U. (DE)
    Toleikis, S. (DE)
    Wabnitz, H. (DE)
    Tiedtke, K.I. (DE)
    Gaudin, J. (DE)
    Gullikson, E.M. (US)
    Bijkerk, F. (NL)
    Zdroj.dok.Damage to VUV, EUV, and X-ray Optics II. - Bellingham : SPIE, 2009 / Juha L. ; Bajt S. ; Sobierajski R. - ISSN 0277-786x - ISBN 9780819476357
    Rozsah stran73610i /1-73610i /6
    Poč.str.6 s.
    AkceDamage to VUV, EUV, and X-Ray Optics II
    Datum konání21.04.2009-23.04.2009
    Místo konáníPrague
    ZeměCZ - Česká republika
    Typ akceWRD
    Jazyk dok.eng - angličtina
    Země vyd.US - Spojené státy americké
    Klíč. slovamultilayer mirror ; radiation damage ; soft x-rays ; free-electron laser
    Vědní obor RIVBH - Optika, masery a lasery
    CEPKAN300100702 GA AV ČR - Akademie věd
    LC510 GA MŠMT - Ministerstvo školství, mládeže a tělovýchovy
    LC528 GA MŠMT - Ministerstvo školství, mládeže a tělovýchovy
    LA08024 GA MŠMT - Ministerstvo školství, mládeže a tělovýchovy
    IAA400100701 GA AV ČR - Akademie věd
    CEZAV0Z10100523 - FZU-D (2005-2011)
    AnotaceWe exposed standard Mo/Si multilayer coatings, optimized for 13.5 nm radiation to the intense femtosecond XUV radiation at the FLASH free electron laser facility at intensities below and above the multilayer ablation threshold. The interaction process was studied in-situ with reflectometry and time resolved optical microscopy, and ex-situ with optical microscopy (Nomarski), atomic force microscopy and high resolution transmission electron microscopy. From analysis of the size of the observed craters as a function of the pulse energy the threshold for irreversible damage of the multilayer could be determined to be 45 mJ/cm2. The damage occurs on a longer time scale than the XUV pulse and even above the damage threshold XUV reflectance has been observed showing no measurable loss up to a power density of 1013 W/cm2. A first explanation of the physics mechanism leading to damage is given.
    PracovištěFyzikální ústav
    KontaktKristina Potocká, potocka@fzu.cz, Tel.: 220 318 579
    Rok sběru2010
Počet záznamů: 1  

  Tyto stránky využívají soubory cookies, které usnadňují jejich prohlížení. Další informace o tom jak používáme cookies.