Počet záznamů: 1  

Physical properties of homogeneous TiO.sub.2./sub. films prepared by high power impulse magnetron sputtering as a function of crystallographic phase and nanostructure

  1. 1.
    SYSNO ASEP0334335
    Druh ASEPJ - Článek v odborném periodiku
    Zařazení RIVJ - Článek v odborném periodiku
    Poddruh JČlánek ve WOS
    NázevPhysical properties of homogeneous TiO2 films prepared by high power impulse magnetron sputtering as a function of crystallographic phase and nanostructure
    Překlad názvuFyzikální vlastnosti homogenních TiO2 vrstev připravovaných pomocí vysokovýkonového pulzního magnetronového odprašování v závislosti na krystalografické fázi a nanostruktuře
    Tvůrce(i) Straňák, Vítězslav (FZU-D) RID, ORCID
    Čada, Martin (FZU-D) RID, ORCID, SAI
    Quaas, M. (DE)
    Block, S. (DE)
    Bogdanowicz, R. (PL)
    Kment, Štěpán (FZU-D) RID, ORCID
    Wulff, H. (DE)
    Hubička, Zdeněk (FZU-D) RID, ORCID, SAI
    Helm, Ch.A. (DE)
    Tichý, M. (CZ)
    Hippler, R. (DE)
    Celkový počet autorů11
    Zdroj.dok.Journal of Physics D-Applied Physics. - : Institute of Physics Publishing - ISSN 0022-3727
    Roč. 42, č. 10 (2009), 105204/1-105204/12
    Poč.str.12 s.
    Jazyk dok.eng - angličtina
    Země vyd.GB - Velká Británie
    Klíč. slovaTiO2 ; high power magnteron sputtering ; plasma diagnostic ; film diagnostic
    Vědní obor RIVBM - Fyzika pevných látek a magnetismus
    CEPKAN301370701 GA AV ČR - Akademie věd
    KJB100100805 GA AV ČR - Akademie věd
    KAN400720701 GA AV ČR - Akademie věd
    CEZAV0Z10100522 - FZU-D (2005-2011)
    UT WOS000265677400036
    DOI10.1088/0022-3727/42/10/105204
    AnotaceOptical, photo-electrochemical, crystallographic and morphological properties of TiO2 thin films prepared by high power impulse magnetron sputtering at low substrate temperatures (<65 ◦C) without post-deposition thermal annealing are studied. The different crystallographic phases were determined with grazing incidence x-ray diffractometry. The surface morphology and size of TiO2 grains/clusters were imaged with atomic force microscopy. Basic plasma parameters were determined by means of the time-resolved Langmuir probe technique. The power density influx on the substrate was estimated from calorimetric probe measurement. The data from calorimetric probe measurements and time-resolved Langmuir probe served as input parameters for the calculation of influx contributions of particular species.
    PracovištěFyzikální ústav
    KontaktKristina Potocká, potocka@fzu.cz, Tel.: 220 318 579
    Rok sběru2010
Počet záznamů: 1  

  Tyto stránky využívají soubory cookies, které usnadňují jejich prohlížení. Další informace o tom jak používáme cookies.