Počet záznamů: 1
Radiation damage to amorphous carbon thin films irradiated by multiple 46.9 nm laser shots below the single-shot damage threshold
- 1.
SYSNO ASEP 0334101 Druh ASEP J - Článek v odborném periodiku Zařazení RIV J - Článek v odborném periodiku Poddruh J Článek ve WOS Název Radiation damage to amorphous carbon thin films irradiated by multiple 46.9 nm laser shots below the single-shot damage threshold Překlad názvu Radiační poškození tenkých vrstev amorfního uhlíku ozářených několika 46.9-nm laserovými pulzy pod prahem poškození jedním impulzem Tvůrce(i) Juha, Libor (FZU-D) RID, ORCID, SAI
Hájková, Věra (FZU-D) RID, ORCID
Chalupský, Jaromír (FZU-D) RID, ORCID
Vorlíček, Vladimír (FZU-D) RID
Ritucci, A. (IT)
Reale, A. (IT)
Zuppella, P. (IT)
Störmer, M. (DE)Zdroj.dok. Journal of Applied Physics. - : AIP Publishing - ISSN 0021-8979
Roč. 105, č. 9 (2009), 093117/1-093117/3Poč.str. 6 s. Jazyk dok. eng - angličtina Země vyd. US - Spojené státy americké Klíč. slova single-shot damage threshold ; multiple-shot exposure damage ; amorphous carbon ; radiation erosion ; capillary-discharge XUV laser Vědní obor RIV BH - Optika, masery a lasery CEP KAN300100702 GA AV ČR - Akademie věd LC510 GA MŠMT - Ministerstvo školství, mládeže a tělovýchovy LC528 GA MŠMT - Ministerstvo školství, mládeže a tělovýchovy LA08024 GA MŠMT - Ministerstvo školství, mládeže a tělovýchovy IAA400100701 GA AV ČR - Akademie věd CEZ AV0Z10100523 - FZU-D (2005-2011) UT WOS 000266263300018 DOI 10.1063/1.3117515 Anotace High-surface-quality amorphous carbon (a-C) optical coatings with a thickness of 45 nm, deposited by magnetron sputtering on a silicon substrate, were irradiated by the 46.9 nm focused beam of capillary-discharge Ne-like Ar extreme ultraviolet laser. It has been found that an accumulation of 10, 20, and 40 shots at a fluence of 0.5 J/cm(2), i.e., below the single-shot damage threshold, causes irreversible changes of thin a-C layers, which can be registered by both the AFM and the DIC microscopy. In the center of the damaged area, AFM shows a-C removal to a maximum depth of 0.3, 1.2, and 1.5 nm for 10-, 20-and 40-shot exposure, respectively. Pracoviště Fyzikální ústav Kontakt Kristina Potocká, potocka@fzu.cz, Tel.: 220 318 579 Rok sběru 2010
Počet záznamů: 1