Počet záznamů: 1

A study of the ion flux during deposition of titanium thin films by hollow cathode plasma jet

SYSNO ASEP	0333649
Druh ASEP	J - Článek v odborném periodiku
Zařazení RIV	J - Článek v odborném periodiku
Poddruh J	Ostatní články
Název	A study of the ion flux during deposition of titanium thin films by hollow cathode plasma jet
Překlad názvu	Studium iontového toku během depozice tenkých vrstev titanu pomocí plazmové trysky s efektem duté katody
Tvůrce(i)	Virostko, Petr (FZU-D) Hubička, Zdeněk (FZU-D)_{RID, ORCID, SAI} Čada, Martin (FZU-D)_{RID, ORCID, SAI} Kment, Štěpán (FZU-D)_{RID, ORCID} Jastrabík, Lubomír (FZU-D)_{RID, ORCID} Tichý, M. (CZ)
Zdroj.dok.	Journal of Plasma and Fusion Research SERIES - ISSN 1883-9630 Roč. 8, - (2009), 719-723
Poč.str.	5 s.
Akce	Proceedings of the 14th International Congress on Plasma Physics (ICPP2008)
Datum konání	08.09.2008-12.09.2008
Místo konání	Fukuoka
Země	JP - Japonsko
Typ akce	WRD
Jazyk dok.	eng - angličtina
Země vyd.	JP - Japonsko
Klíč. slova	ion flux ; plasma jet ; hollow cathode ; plasma diagnostics
Vědní obor RIV	BL - Fyzika plazmatu a výboje v plynech
CEP	KJB100100707 GA AV ČR - Akademie věd
	KJB100100805 GA AV ČR - Akademie věd
	1M06002 GA MŠMT - Ministerstvo školství, mládeže a tělovýchovy
CEZ	AV0Z10100522 - FZU-D (2005-2011)
Anotace	Flux of positive ions to the substrate in the hollow cathode plasma jet system during deposition of titanium thin films was studied. The substrate was negatively biased by applying 50 kHz pulsed DC, or 0.50-1.25 MHz and 13.56 MHz high-frequency voltage to it. The ion flux determined in the DC hollow cathode discharge during the active high frequency bias was systematically higher than for the pulsed DC bias or determined right after the high frequency bias was turned off. On the other hand in the RF hollow cathode discharge, the ion fluxes determined for the active high frequency and 50 kHz low frequency bias were comparable. Possible explanations of this phenomenon are discussed.
Pracoviště	Fyzikální ústav
Kontakt	Kristina Potocká, potocka@fzu.cz, Tel.: 220 318 579
Rok sběru	2010

Počet záznamů: 1