Počet záznamů: 1  

Space resolved optical emission spectroscopy during deposition of Ba.sub.x./sub.Sr.sub.1-x./sub.TiO.sub.3./sub. thin films by double hollow cathode plasma Jet system

  1. 1.
    SYSNO ASEP0326764
    Druh ASEPJ - Článek v odborném periodiku
    Zařazení RIVJ - Článek v odborném periodiku
    Poddruh JČlánek ve WOS
    NázevSpace resolved optical emission spectroscopy during deposition of BaxSr1-xTiO3 thin films by double hollow cathode plasma Jet system
    Překlad názvuProstorově rozlišená optická emisní spektroskopie během depozice tenkých vrstev BaxSr1-xTiO3 pomocí dvojtryskového plazma-jet systému
    Tvůrce(i) Olejníček, Jiří (FZU-D) RID, ORCID
    Hubička, Zdeněk (FZU-D) RID, ORCID, SAI
    Čada, Martin (FZU-D) RID, ORCID, SAI
    Virostko, Petr (FZU-D)
    Kment, Štěpán (FZU-D) RID, ORCID
    Adámek, Petr (FZU-D) RID, ORCID
    Jastrabík, Lubomír (FZU-D) RID, ORCID
    Dejneka, Alexandr (FZU-D) RID, ORCID
    Celkový počet autorů8
    Zdroj.dok.Materials Science Forum - ISSN 0255-5476
    Roč. 609, - (2009), s. 105-109
    Poč.str.5 s.
    AkceInternational Conference on Thin Films and Porous Materials /1./
    Datum konání19.05.2008-22.05.2008
    Místo konáníAlgiers
    ZeměDZ - Alžírsko
    Typ akceWRD
    Jazyk dok.eng - angličtina
    Země vyd.CH - Švýcarsko
    Klíč. slovaBaxSr1-xTiO3 ; BSTO ; ferroelectric films ; hollow cathode ; optical emission spectroscopy
    Vědní obor RIVBM - Fyzika pevných látek a magnetismus
    CEPGA202/08/1009 GA ČR - Grantová agentura ČR
    KJB100100707 GA AV ČR - Akademie věd
    KAN301370701 GA AV ČR - Akademie věd
    1M06002 GA MŠMT - Ministerstvo školství, mládeže a tělovýchovy
    CEZAV0Z10100522 - FZU-D (2005-2011)
    UT WOS000264750100016
    DOI10.4028/3-908454-02-6.105
    AnotacePulse modulated double hollow cathode RF plasma jet system with two separate independent nozzles made of BaTiO3 (BTO) and SrTiO3 (STO) was used for deposition of BSTO thin films on Si and on multi-layer Si/SiO2/TiO2/Pt substrates. Space resolved optical emission spectroscopy (OES) was used mainly for monitoring of concentration of particles sputtered from the hollow cathode and for feedback correction of power supplied in both nozzles because applied power was responsible for sputtering speed of Ba and Sr particles. Main attention was focused on relation between ratio of spectral intensity of Ba, Ba+, Sr and Sr+ lines close to substrate and ratio of Ba and Sr concentration in the deposited film. 2D map of emission lines intensity distribution for Ba, Ba+, Sr, Sr+, Ti, Ar, and Ar+ for double hollow cathode plasma jet system with BTO and STO nozzles was created.
    PracovištěFyzikální ústav
    KontaktKristina Potocká, potocka@fzu.cz, Tel.: 220 318 579
    Rok sběru2010
Počet záznamů: 1  

  Tyto stránky využívají soubory cookies, které usnadňují jejich prohlížení. Další informace o tom jak používáme cookies.