Počet záznamů: 1  

Deposition of nanocrystalline and microcrystalline Ba.sub.x./sub.Sr.sub.1-x./sub.TiO.sub.3./sub. by means of pulse modulated low pressure plasma jet system

  1. 1.
    SYSNO ASEP0323878
    Druh ASEPJ - Článek v odborném periodiku
    Zařazení RIVJ - Článek v odborném periodiku
    Poddruh JČlánek ve WOS
    NázevDeposition of nanocrystalline and microcrystalline BaxSr1-xTiO3 by means of pulse modulated low pressure plasma jet system
    Překlad názvuDepozice nanokrystalického a mikrokrystalického BaxSr1-xTiO3 pomocí pulzně modulovaného nízkotlakého systému s plazmovou tryskou
    Tvůrce(i) Olejníček, Jiří (FZU-D) RID, ORCID
    Hubička, Zdeněk (FZU-D) RID, ORCID, SAI
    Virostko, Petr (FZU-D)
    Deyneka, Alexander (FZU-D)
    Jastrabík, Lubomír (FZU-D) RID, ORCID
    Chvostová, Dagmar (FZU-D) RID, SAI, ORCID
    Šíchová, Hana (FZU-D)
    Pokorný, Jan (FZU-D) RID, ORCID
    Celkový počet autorů8
    Zdroj.dok.Integrated Ferroelectrics - ISSN 1058-4587
    Roč. 81, č. 1 (2006), s. 227-237
    Poč.str.11 s.
    Jazyk dok.eng - angličtina
    Země vyd.GB - Velká Británie
    Klíč. slovaferroelectric thin films ; hollow cathode sputtering ; emission spectroscopy
    Vědní obor RIVBM - Fyzika pevných látek a magnetismus
    CEZAV0Z10100522 - FZU-D (2005-2011)
    UT WOS000239819400019
    DOI10.1080/10584580600685535
    AnotaceModulated RF plasma jet system was used for deposition of BaxSr1-xTiO3 and SrTiO3 thin films.Optical emission spectroscopy of the plasma was used for control of concentration of particles sputtered from the hollow cathode.
    PracovištěFyzikální ústav
    KontaktKristina Potocká, potocka@fzu.cz, Tel.: 220 318 579
    Rok sběru2009
Počet záznamů: 1