Počet záznamů: 1  

Single-shot soft x-ray laser-induced ablative microstructuring of organic polymer with demagnifying projection

  1. 1.
    SYSNO ASEP0316451
    Druh ASEPJ - Článek v odborném periodiku
    Zařazení RIVJ - Článek v odborném periodiku
    Poddruh JČlánek ve WOS
    NázevSingle-shot soft x-ray laser-induced ablative microstructuring of organic polymer with demagnifying projection
    Překlad názvuAblační mikrostrukturování povrchu organického polymeru rentgenovým laserem
    Tvůrce(i) Mocek, Tomáš (FZU-D) RID, ORCID, SAI
    Rus, Bedřich (FZU-D) ORCID
    Kozlová, Michaela (FZU-D) RID, ORCID
    Polan, Jiří (FZU-D)
    Homer, Pavel (FZU-D) RID
    Juha, Libor (FZU-D) RID, ORCID, SAI
    Hájková, Věra (FZU-D) RID, ORCID
    Chalupský, Jaromír (FZU-D) RID, ORCID
    Zdroj.dok.Optics Letters. - : Optical Society of America - ISSN 0146-9592
    Roč. 33, č. 10 (2008), s. 1087-1089
    Poč.str.3 s.
    Jazyk dok.eng - angličtina
    Země vyd.US - Spojené státy americké
    Klíč. slovax-ray lasers ; laser ablation ; microstructuring
    Vědní obor RIVBH - Optika, masery a lasery
    CEPKAN300100702 GA AV ČR - Akademie věd
    GA202/05/2316 GA ČR - Grantová agentura ČR
    LC510 GA MŠMT - Ministerstvo školství, mládeže a tělovýchovy
    LC528 GA MŠMT - Ministerstvo školství, mládeže a tělovýchovy
    LA08024 GA MŠMT - Ministerstvo školství, mládeže a tělovýchovy
    CEZAV0Z10100523 - FZU-D (2005-2011)
    UT WOS000256520500018
    DOI10.1364/OL.33.001087
    AnotaceWe report on a single-shot micropatterning of an organic polymer achieved by ablation with demagnifying projection using a Ne-like Zn 21.2 nm soft x-ray laser. A nickel mesh with a period of 100 mu m was similar to 10x demagnified and imprinted on poly(methyl methacrylate) via direct ablation. The quality of the ablated microstructure was found to be mainly dependent on the quality of the projected mask. This first demonstration (to our knowledge) of single-shot projection, single-step lithography illustrates the potential of soft x-ray lasers for the direct patterning of materials with a resolution scalable down to submicrometer domain.
    PracovištěFyzikální ústav
    KontaktKristina Potocká, potocka@fzu.cz, Tel.: 220 318 579
    Rok sběru2009
Počet záznamů: 1  

  Tyto stránky využívají soubory cookies, které usnadňují jejich prohlížení. Další informace o tom jak používáme cookies.