Počet záznamů: 1
Electron yield from Be-Cu induced by highly charged Xe q+ ions
- 1.
SYSNO ASEP 0133977 Druh ASEP J - Článek v odborném periodiku Zařazení RIV J - Článek v odborném periodiku Poddruh J Ostatní články Název Electron yield from Be-Cu induced by highly charged Xe q+ ions Tvůrce(i) Krása, Josef (FZU-D) RID, ORCID
Láska, Leoš (FZU-D)
Stöckli, M. P. (US)
Fehrenbach, C. W. (US)Zdroj.dok. Nuclear Instruments & Methods in Physics Research Section B. - : Elsevier - ISSN 0168-583X
Roč. 196, - (2002), s. 61-67Poč.str. 7 s. Jazyk dok. eng - angličtina Země vyd. NL - Nizozemsko Klíč. slova highly charged ion-induced electron emission ; angle impact effect ; Be-Cu Vědní obor RIV BH - Optika, masery a lasery CEP IAA1010105 GA AV ČR - Akademie věd LN00A100 GA MŠMT - Ministerstvo školství, mládeže a tělovýchovy CEZ AV0Z1010921 - FZU-D Anotace The total electron yield, gamma, for emission of electrons induced by impact of Xeq+ (8óqó28) ions with kinetic energy per charge Ei/q from 5 to 150keV/q on clean Be-Cu is presented for the impact angle, é, ranging from 0o to 60o.The é-dependences are analyzed with the use of the relation, which can distinguish above- and below-surface electron emission. Pracoviště Fyzikální ústav Kontakt Kristina Potocká, potocka@fzu.cz, Tel.: 220 318 579 Rok sběru 2003
Počet záznamů: 1