Počet záznamů: 1
Contamination of magnetron sputtered metallic films by oxygen from residual atmosphere in deposition chamber
- 1.Pokorný, Petr - Musil, Jindřich - Fitl, Přemysl - Novotný, Michal - Lančok, Ján - Bulíř, Jiří
Contamination of magnetron sputtered metallic films by oxygen from residual atmosphere in deposition chamber.
Plasma Processes and Polymers. Roč. 12, č. 5 (2015), s. 416-421. ISSN 1612-8850. E-ISSN 1612-8869
Impakt faktor: 2.713, rok: 2015
http://hdl.handle.net/11104/0250593
Počet záznamů: 1