Počet záznamů: 1
The structure and growth mechanism of Si nanoneedles prepared by plasma-enhanced chemical vapor deposition
- 1.Červenka, Jiří - Ledinský, Martin - Stuchlík, Jiří - Stuchlíková, The-Ha - Bakardjieva, Snejana - Hruška, Karel - Fejfar, Antonín - Kočka, Jan
The structure and growth mechanism of Si nanoneedles prepared by plasma-enhanced chemical vapor deposition.
Nanotechnology. Roč. 21, č. 41 (2010), 415604/1-415604/7. ISSN 0957-4484. E-ISSN 1361-6528
Impakt faktor: 3.644, rok: 2010
http://hdl.handle.net/11104/0192169
Počet záznamů: 1