Počet záznamů: 1
Způsob řízení rychlosti depozice tenkých vrstev ve vakuovém vícetryskovém plazmovém systému a zařízení k provádění tohoto způsobu
- 1.0481686 - FZÚ 2018 RIV cze P - Patentový dokument
Olejníček, Jiří - Šmíd, Jiří - Hubička, Zdeněk - Adámek, Petr - Čada, Martin - Kment, Štěpán
Způsob řízení rychlosti depozice tenkých vrstev ve vakuovém vícetryskovém plazmovém systému a zařízení k provádění tohoto způsobu.
[A method of controlling the rate of deposition of thin layers in a vacuum multi-nozzle plasma system and a device for implementing this method.]
2017. Vlastník: Fyzikální ústav AV ČR, v. v. i. Datum udělení patentu: 13.09.2017. Číslo patentu: 306980
Grant CEP: GA TA ČR(CZ) TF01000084
Institucionální podpora: RVO:68378271
Klíčová slova: hollow cathode * plasma nozzle * deposition * thin films
Obor OECD: Fluids and plasma physics (including surface physics)
https://isdv.upv.cz/webapp/webapp.pts.det?xprim=10241583&lan=cs&s_majs=&s_puvo=&s_naze=&s_anot=
Trvalý link: http://hdl.handle.net/11104/0277207
Počet záznamů: 1