Effect of nitrogen doping on TiO.sub.x./sub.N.sub.y./sub. thin film formation at reactive high-power pulsed magnetron sputtering

0358730 - FZÚ 2012 RIV GB eng J - Článek v odborném periodiku
Straňák, Vítězslav - Quaas, M. - Bogdanowicz, R. - Steffen, H. - Wulff, H. - Hubička, Zdeněk - Tichý, M. - Hippler, R.
Effect of nitrogen doping on TiO_xN_y thin film formation at reactive high-power pulsed magnetron sputtering.
Journal of Physics D-Applied Physics. Roč. 43, č. 28 (2010), s. 1-7. ISSN 0022-3727. E-ISSN 1361-6463
Grant CEP: GA AV ČR KAN301370701; GA MŠMT(CZ) 1M06002
Grant ostatní: AVČR(CZ) M100100915
Výzkumný záměr: CEZ:AV0Z10100522
Klíčová slova: magnetron sputtering * TiO₂ * pulse discharge * XRD * band gap
Kód oboru RIV: BL - Fyzika plazmatu a výboje v plynech
Impakt faktor: 2.105, rok: 2010
http://iopscience.iop.org/0022-3727/43/28/285203/

Trvalý link: http://hdl.handle.net/11104/0196679