Počet záznamů: 1  

The structure and growth mechanism of Si nanoneedles prepared by plasma-enhanced chemical vapor deposition

  1. 1.
    0352722 - FZÚ 2011 RIV GB eng J - Článek v odborném periodiku
    Červenka, Jiří - Ledinský, Martin - Stuchlík, Jiří - Stuchlíková, The-Ha - Bakardjieva, Snejana - Hruška, Karel - Fejfar, Antonín - Kočka, Jan
    The structure and growth mechanism of Si nanoneedles prepared by plasma-enhanced chemical vapor deposition.
    Nanotechnology. Roč. 21, č. 41 (2010), 415604/1-415604/7. ISSN 0957-4484. E-ISSN 1361-6528
    Grant CEP: GA MŠMT(CZ) LC06040; GA AV ČR KAN400100701; GA MŠMT LC510
    GRANT EU: European Commission(XE) 240826 - PolySiMode
    Výzkumný záměr: CEZ:AV0Z10100521; CEZ:AV0Z40320502
    Klíčová slova: nanoneedles * nanowires * silicon * plasma * chemical vapor deposition * crystal structure * growth * phonon * SEM * Raman
    Kód oboru RIV: BM - Fyzika pevných látek a magnetismus
    Impakt faktor: 3.644, rok: 2010

    Trvalý link: http://hdl.handle.net/11104/0192169
     
Počet záznamů: 1  

  Tyto stránky využívají soubory cookies, které usnadňují jejich prohlížení. Další informace o tom jak používáme cookies.