Počet záznamů: 1
Deposition of SiC thin films using pulsed sputtering of a hollow cathode
- 1.0331189 - FZÚ 2010 RIV US eng J - Článek v odborném periodiku
Soukup, R. J. - Ianno, N.J. - Huguenin-Love, J.L. - Lauer, N.T. - Hubička, Zdeněk
Deposition of SiC thin films using pulsed sputtering of a hollow cathode.
[Depozice SiC tenkých vrstev pomocí pulzního rozprašování duté katody.]
Journal of Materials Science and Engineering. Roč. 3, č. 8 (2009), s. 1-4. ISSN 1934-8959
Grant CEP: GA MŠMT(CZ) 1M06002
Výzkumný záměr: CEZ:AV0Z10100522
Klíčová slova: hollow cathode * pulsed sputtering * 4H SiC
Kód oboru RIV: BH - Optika, masery a lasery
Trvalý link: http://hdl.handle.net/11104/0176779
Počet záznamů: 1