RBS and XPS measurements of Ag and Er implantation into the silica

0323154 - ÚJF 2009 RIV SK eng C - Konferenční příspěvek (zahraniční konf.)
Kormunda, M. - Malinský, Petr - Macková, Anna - Švecová, B. - Nekvindová, P.
RBS and XPS measurements of Ag and Er implantation into the silica.
[Měření Ag a Er implantovaných v silikátových sklech metodami XPS a RBS.]
Book of Contributed Papers. Bratislava: Department of Experimental Physics, Comenius University in Bratislava, 2009, s. 179-180. ISBN 978-80-89186-45-7.
[17th Symphosium on Application of Plasma Processes. Liptovský Ján (SK), 17.01.2009-22.01.2009]
Grant CEP: GA AV ČR(CZ) KJB100480601
Výzkumný záměr: CEZ:AV0Z10480505
Klíčová slova: Ag, Er implantation * silica glass * RBS and XPS analysis
Kód oboru RIV: BG - Jaderná, atomová a mol. fyzika, urychlovače

Metal particle implantation into glasses has promising properties for application in optical devices. These properties depend on the size, shape, density and spatial distribution of metal particles. Heavy-ion implantation of silica glasses is an efficient method of fabrication of the metal-nanoparticles composites that are promising for ultra-fast optical devices. The Ag+ and Er+ ions were implanted into silicate glasses on implantor in collaboration with Forschungzentrum Dresden-Rossendorf. The depth distributions of implanted metal were investigated by RBS and XPS analytical methods. SRIM 2006 calculations were used for comparison. Implantation of Ag and Er ions into silicate glass was studied. The energies of the implanted Ag and Er ions were 330 keV and used implantation fluence of ions was 1.0 x 1016 ions.cm-2.

Implantace kovových částic do skel vykazuje slibné vlastnosti v oblasti aplikací pro optická zařízení. Vlastnosti implantací vytvořených struktur ve sklech závisí na velikosti, tvaru, hustotě a prostorovém rozdělení vzniklých kovových částic. Iontová implantace je efektivní metoda přípravy kovových nano-částic a kompozitů obsahujících kovové nano-částice ve sklech, kde jsou potenciálně aplikovatelné pro ultra-rychlé optické součástky. Ag+ a Er+ ionty byly implantovány do silikátových skel s využitím implantátoru ve Forschungzentrum Dresden-Rossendorf, hloubková distribuce implantovaných prvků byla zkoumána metodami RBS a XPS. SRIM 2006 byl použit pro srovnávací simulace implantovaných profilů. Energie implantovaných částic byla 330 keV a použitá fluence iontů byla 1.0 x 1016 ions.cm-2.
Trvalý link: http://hdl.handle.net/11104/0171205