Počet záznamů: 1
Time-resolved ion flux and impedance measurements for process characterization in reactive high-power impulse magnetron sputtering
- 1.0470666 - FZÚ 2017 RIV US eng J - Článek v odborném periodiku
Lundin, D. - Čada, Martin - Hubička, Zdeněk
Time-resolved ion flux and impedance measurements for process characterization in reactive high-power impulse magnetron sputtering.
Journal of Vacuum Science & Technology A : Vacuum, Surfaces and Films. Roč. 34, č. 4 (2016), 1-10, č. článku 041305. ISSN 0734-2101. E-ISSN 1520-8559
Grant CEP: GA ČR(CZ) GA15-00863S
GRANT EU: European Commission(XE) 608800 - HIPPOCAMP
Institucionální podpora: RVO:68378271
Klíčová slova: radiofrequency current * voltage measurements * energy-distributions * sheath voltages * deposition * density * hysteresis * discharges * films * technology
Kód oboru RIV: BL - Fyzika plazmatu a výboje v plynech
Impakt faktor: 1.374, rok: 2016
Trvalý link: http://hdl.handle.net/11104/0268241
Počet záznamů: 1