Characterization of thin MnSi and MnGe Layers Prepared by Reactive UV Pulsed Laser Deposition.

0465309 - ÚCHP 2017 RIV CH eng J - Článek v odborném periodiku
Koštejn, Martin - Fajgar, Radek - Dytrych, Pavel - Kupčík, Jaroslav - Dřínek, Vladislav - Jandová, Věra - Huber, Š. - Novotný, F.
Characterization of thin MnSi and MnGe Layers Prepared by Reactive UV Pulsed Laser Deposition.
Thin Solid Films. Roč. 619, NOV 30 (2016), s. 73-80. ISSN 0040-6090. E-ISSN 1879-2731
Grant CEP: GA ČR GC15-08842J
Institucionální podpora: RVO:67985858
Klíčová slova: diluted ferromagnetic semiconductor * reactive pulsed laser deposition * silicide
Kód oboru RIV: CF - Fyzikální chemie a teoretická chemie
Impakt faktor: 1.879, rok: 2016
Trvalý link: http://hdl.handle.net/11104/0266707