Počet záznamů: 1  

The combined technological methods for deposition of Si:H thin films and structures with in situ embedded nanoparticles

  1. 1.
    0451866 - FZÚ 2017 RIV US eng J - Článek v odborném periodiku
    Stuchlík, Jiří - Stuchlíková, The-Ha - Remeš, Zdeněk - Purkrt, Adam - Fajgar, Radek - Koštejn, Martin - Zhuravlev, K. - Kupčík, Jaroslav - Sveshnikova, L. - Galkin, K.N. - Galkin, N.G.
    The combined technological methods for deposition of Si:H thin films and structures with in situ embedded nanoparticles.
    Advanced Science, Engineering and Medicine. Roč. 7, č. 4 (2015), s. 265-269. ISSN 2164-6627
    Grant CEP: GA MŠMT LH12236
    Institucionální podpora: RVO:68378271 ; RVO:67985858
    Klíčová slova: PECVD * RDE * LA * RLA * VE * PT
    Kód oboru RIV: BM - Fyzika pevných látek a magnetismus
    Trvalý link: http://hdl.handle.net/11104/0252930
     
     
Počet záznamů: 1  

  Tyto stránky využívají soubory cookies, které usnadňují jejich prohlížení. Další informace o tom jak používáme cookies.