Počet záznamů: 1
The combined technological methods for deposition of Si:H thin films and structures with in situ embedded nanoparticles
- 1.0451866 - FZÚ 2017 RIV US eng J - Článek v odborném periodiku
Stuchlík, Jiří - Stuchlíková, The-Ha - Remeš, Zdeněk - Purkrt, Adam - Fajgar, Radek - Koštejn, Martin - Zhuravlev, K. - Kupčík, Jaroslav - Sveshnikova, L. - Galkin, K.N. - Galkin, N.G.
The combined technological methods for deposition of Si:H thin films and structures with in situ embedded nanoparticles.
Advanced Science, Engineering and Medicine. Roč. 7, č. 4 (2015), s. 265-269. ISSN 2164-6627
Grant CEP: GA MŠMT LH12236
Institucionální podpora: RVO:68378271 ; RVO:67985858
Klíčová slova: PECVD * RDE * LA * RLA * VE * PT
Kód oboru RIV: BM - Fyzika pevných látek a magnetismus
Trvalý link: http://hdl.handle.net/11104/0252930
Počet záznamů: 1