Počet záznamů: 1
High-rate reactive deposition of transparent SiO.sub.2./sub. films containing low amount of Zr from molten magnetron target
- 1.0437497 - FZÚ 2015 RIV CH eng J - Článek v odborném periodiku
Musil, Jindřich - Satava, V. - Baroch, P.
High-rate reactive deposition of transparent SiO2 films containing low amount of Zr from molten magnetron target.
Thin Solid Films. Roč. 519, č. 2 (2010), s. 775-777. ISSN 0040-6090. E-ISSN 1879-2731
Výzkumný záměr: CEZ:AV0Z10100520
Klíčová slova: sputtering * evaporation * reactive deposition * target power density
Kód oboru RIV: BM - Fyzika pevných látek a magnetismus
Impakt faktor: 1.909, rok: 2010
Trvalý link: http://hdl.handle.net/11104/0241059
Počet záznamů: 1