Počet záznamů: 1  

SMV-2013-19: Řešení nanolitografického systému založeného na dvoufotonové fotopolymerizaci

  1. 1.
    0426257 - ÚPT 2014 RIV CZ cze V - Výzkumná zpráva
    Jákl, Petr - Šerý, Mojmír - Zemánek, Pavel
    SMV-2013-19: Řešení nanolitografického systému založeného na dvoufotonové fotopolymerizaci.
    [SMV-2013-19: Nanolithography system based on two-photon photopolymerization.]
    Brno: Měřící technika Morava s.r.o, 2013. 2 s.
    Zdroj financování: N - neveřejné zdroje
    Klíčová slova: holography * laser beam shaping * polymerization
    Kód oboru RIV: BH - Optika, masery a lasery
    Trvalý link: http://hdl.handle.net/11104/0232033
     
     
Počet záznamů: 1