Investigation of the negative ions in Ar/O.sub.2./sub. plasma of magnetron sputtering discharge with Al:Zn target by ion mass spectrometry

0363960 - FZÚ 2012 RIV DE eng J - Článek v odborném periodiku
Pokorný, Petr - Mišina, Martin - Bulíř, Jiří - Lančok, Ján - Fitl, Přemysl - Musil, Jindřich - Novotný, Michal
Investigation of the negative ions in Ar/O₂ plasma of magnetron sputtering discharge with Al:Zn target by ion mass spectrometry.
Plasma Processes and Polymers. Roč. 8, č. 5 (2011), s. 459-464. ISSN 1612-8850. E-ISSN 1612-8869
Grant CEP: GA AV ČR IAA100100718; GA AV ČR KAN400100653; GA ČR GP202/09/P324
Výzkumný záměr: CEZ:AV0Z10100522
Klíčová slova: energy-resolved ion mass spectrometry * formation of negative ions * magnetron sputtering * mass spectrometry * transparent conductive oxide
Kód oboru RIV: BM - Fyzika pevných látek a magnetismus
Impakt faktor: 2.468, rok: 2011
Trvalý link: http://hdl.handle.net/11104/0199569