Počet záznamů: 1  

Fotoelektrokatalytické procesy na tenkých vrstvách TiO2

  1. SYS0338853
    LBL
      
    01911^^^^^2200349^^^450
    005
      
    20240111140735.1
    100
      
    $a 20100315d m y slo 03 ba
    101
    0-
    $a cze $d cze
    102
      
    $a CZ
    200
    1-
    $a Fotoelektrokatalytické procesy na tenkých vrstvách TiO2
    215
      
    $a 1 s. $c CD-ROM
    300
      
    $a 3 pp. full text on CD-ROM
    463
    -1
    $1 001 cav_un_epca*0335971 $1 010 $a 978-80-86059-51-8 $1 200 1 $a Sborník $v S.221 $1 210 $a Praha $c Česká společnost chemického inženýrství $d 2009 $1 541 1 $a Book of Abstracts $z eng $1 702 1 $a Halfar $b R. $4 340
    541
    1-
    $a Fotoelektrokatalytické procesy na tenkých vrstvách TiO2 $z eng
    610
    0-
    $a thin TiO2 layers
    610
    0-
    $a photoelectrocatalysis
    610
    0-
    $a photoelectrochemistry
    700
    -1
    $3 cav_un_auth*0245113 $a Morozová $b Magdalena $i Oddělení katalýzy a reakčního inženýrství $j Department of Catalysis and Reaction Engineering $p UCHP-M $w Department of Catalysis and Reaction Engineering $4 070 $T Ústav chemických procesů AV ČR, v. v. i.
    701
    -1
    $3 cav_un_auth*0242338 $a Klusoň $b Petr $i Oddělení katalýzy a reakčního inženýrství $j Department of Catalysis and Reaction Engineering $p UCHP-M $w Department of Catalysis and Reaction Engineering $4 070 $T Ústav chemických procesů AV ČR, v. v. i.
    701
    -1
    $3 cav_un_auth*0015740 $a Krýsa $b J. $y CZ $4 070
    701
    -1
    $3 cav_un_auth*0103378 $a Šolcová $b Olga $i Oddělení katalýzy a reakčního inženýrství $j Department of Catalysis and Reaction Engineering $p UCHP-M $w Department of Catalysis and Reaction Engineering $4 070 $T Ústav chemických procesů AV ČR, v. v. i.
    856
      
    $q textový dokument $u www.chisa.cz/2009
Počet záznamů: 1  

  Tyto stránky využívají soubory cookies, které usnadňují jejich prohlížení. Další informace o tom jak používáme cookies.