Počet záznamů: 1  

Photo-electrochemical stability of copper oxide photocathodes deposited by reactive high power impulse magnetron sputtering

  1. SYS0512095
    LBL
      
    01000a^^22220027750^450
    005
      
    20240103223045.2
    014
      
    $a 85057216402 $2 SCOPUS
    014
      
    $a 000461462200006 $2 WOS
    017
    70
    $a 10.1016/j.cattod.2018.11.034 $2 DOI
    100
      
    $a 20191129d m y slo 03 ba
    101
    0-
    $a eng
    102
      
    $a NL
    200
    1-
    $a Photo-electrochemical stability of copper oxide photocathodes deposited by reactive high power impulse magnetron sputtering
    215
      
    $a 6 s.
    463
    -1
    $1 001 cav_un_epca*0256354 $1 011 $a 0920-5861 $e 1873-4308 $1 200 1 $a Catalysis Today $v Roč. 328, May (2019), s. 29-34 $1 210 $c Elsevier
    608
      
    $a Article
    608
      
    $a Proceedings Paper
    610
      
    $a high power impulse magnetron sputtering
    610
      
    $a reactive sputtering
    610
      
    $a magnetron discharge
    610
      
    $a photocathode
    610
      
    $a photocurrent
    610
      
    $a copper oxide
    700
    -1
    $3 cav_un_auth*0100245 $a Hubička $b Zdeněk $p FZU-D $i Nízkoteplotní plazma $j Low-Temperature Plasma $w Low-Temperature Plasma $z K $T Fyzikální ústav AV ČR, v. v. i.
    701
    -1
    $3 cav_un_auth*0245114 $a Zlámal $b M. $y CZ
    701
    -1
    $3 cav_un_auth*0100168 $a Čada $b Martin $p FZU-D $i Nízkoteplotní plazma $j Low-Temperature Plasma $w Low-Temperature Plasma $T Fyzikální ústav AV ČR, v. v. i.
    701
    -1
    $3 cav_un_auth*0234460 $a Kment $b Štěpán $p FZU-D $i Nízkoteplotní plazma $j Low-Temperature Plasma $w Low-Temperature Plasma $y CZ $T Fyzikální ústav AV ČR, v. v. i.
    701
    -1
    $3 cav_un_auth*0312380 $a Krysa $b J. $y CZ
    856
      
    $9 RIV $u https://doi.org/10.1016/j.cattod.2018.11.034
Počet záznamů: 1  

  Tyto stránky využívají soubory cookies, které usnadňují jejich prohlížení. Další informace o tom jak používáme cookies.