Počet záznamů: 1  

Characterization of hydrogenated silicon thin films and diode structures with integrated germanium nanoparticles

  1. SYS0496537
    LBL
      
    01000a^^22220027750^450
    005
      
    20240103220919.2
    017
      
    $2 DOI
    100
      
    $a 20181116d m y slo 03 ba
    101
      
    $a eng
    102
      
    $a CZ
    200
    1-
    $a Characterization of hydrogenated silicon thin films and diode structures with integrated germanium nanoparticles
    215
      
    $a 5 s. $c E
    463
    -1
    $1 001 cav_un_epca*0494122 $1 010 $a 9788087294819 $1 200 1 $a Nanocon 2017 : conference proceedings : 9th International Conference on Nanomaterials - Research & Application $v S. 123-127 $1 210 $a Ostrava $c Tanger Ltd. $d 2018
    610
      
    $a PECVD
    610
      
    $a a-Si:H diode structures
    610
      
    $a Ge
    610
      
    $a nanoparticles
    700
    -1
    $3 cav_un_auth*0100533 $a Stuchlík $b Jiří $i Tenké vrstvy a nanostruktury $j Thin Films and Nanostructures $p FZU-D $w Thin Films and Nanostructures $T Fyzikální ústav AV ČR, v. v. i.
    701
    -1
    $3 cav_un_auth*0103253 $a Fajgar $b Radek $i Oddělení laserové chemie $j Department of Laser Chemistry $p UCHP-M $w Department of Laser Chemistry $T Ústav chemických procesů AV ČR, v. v. i.
    701
    -1
    $3 cav_un_auth*0103307 $a Kupčík $b Jaroslav $i Oddělení laserové chemie $j Department of Laser Chemistry $p UCHP-M $w Department of Laser Chemistry $T Ústav chemických procesů AV ČR, v. v. i.
    701
    -1
    $3 cav_un_auth*0100485 $a Remeš $b Zdeněk $i Optické materiály $j Optical Materials $p FZU-D $w Optical Materials $T Fyzikální ústav AV ČR, v. v. i.
    701
    -1
    $3 cav_un_auth*0100534 $a Stuchlíková $b The-Ha $i Tenké vrstvy a nanostruktury $j Thin Films and Nanostructures $p FZU-D $w Thin Films and Nanostructures $T Fyzikální ústav AV ČR, v. v. i.
Počet záznamů: 1  

  Tyto stránky využívají soubory cookies, které usnadňují jejich prohlížení. Další informace o tom jak používáme cookies.