Počet záznamů: 1
High-rate reactive deposition of transparent SiO.sub.2./sub. films containing low amount of Zr from molten magnetron target
SYS 0437497 LBL 01991^^^^^2200337^^^450 005 20240103205330.7 014 $a 000284499500039 $2 WOS 014 $a 77958493833 $2 SCOPUS 017 70
$a 10.1016/j.tsf.2010.09.009 $2 DOI 100 $a 20141212d m y slo 03 ba 101 0-
$a eng 102 $a CH 200 1-
$a High-rate reactive deposition of transparent SiO2 films containing low amount of Zr from molten magnetron target 215 $a 3 s. 300 $a není v KD 12/12/2014 463 -1
$1 001 cav_un_epca*0257662 $1 011 $a 0040-6090 $e 1879-2731 $1 200 1 $a Thin Solid Films $v Roč. 519, č. 2 (2010), s. 775-777 $1 210 $c Elsevier 610 0-
$a sputtering 610 0-
$a evaporation 610 0-
$a reactive deposition 610 0-
$a target power density 700 -1
$3 cav_un_auth*0100398 $a Musil $b Jindřich $i Vlnové a částicové šíření světla, optické technologie a materiály $j Wave and corpuscular light propagation, optical technologies and materials $p FZU-D $w Fabrication and Analysis of Functional Materials $4 070 $T Fyzikální ústav AV ČR, v. v. i. 701 -1
$3 cav_un_auth*0311500 $a Satava $b V. $y CZ $4 070 701 -1
$3 cav_un_auth*0038743 $a Baroch $b P. $y CZ $4 070
Počet záznamů: 1