Počet záznamů: 1  

Programovatelný Dip-Coater pro depozici tenkých vrstev v roztocích

  1. SYS0424535
    LBL
      
    03338^^^^^2200361^^^450
    005
      
    20240103203830.9
    100
      
    $a 20140312d m y slo 03 ba
    101
    0-
    $a cze
    102
      
    $a CZ
    200
    1-
    $a Programovatelný Dip-Coater pro depozici tenkých vrstev v roztocích
    210
      
    $d 2013
    541
    1-
    $a Programmable Dip-Coater for deposition of thin films in chemical solutions $z eng
    610
    0-
    $a dip coaterTA01011740
    610
    0-
    $a thin film
    610
    0-
    $a automatické řízení
    700
    -1
    $3 cav_un_auth*0236881 $a Adámek $b Petr $i Vlnové a částicové šíření světla, optické technologie a materiály $j Wave and corpuscular light propagation, optical technologies and materials $p FZU-D $w Low-Temperature Plasma $4 070 $T Fyzikální ústav AV ČR, v. v. i.
    701
    -1
    $3 cav_un_auth*0100168 $a Čada $b Martin $i Vlnové a částicové šíření světla, optické technologie a materiály $j Wave and corpuscular light propagation, optical technologies and materials $p FZU-D $w Low-Temperature Plasma $4 070 $T Fyzikální ústav AV ČR, v. v. i.
    701
    -1
    $3 cav_un_auth*0100245 $a Hubička $b Zdeněk $i Vlnové a částicové šíření světla, optické technologie a materiály $j Wave and corpuscular light propagation, optical technologies and materials $p FZU-D $w Low-Temperature Plasma $4 070 $T Fyzikální ústav AV ČR, v. v. i.
    701
    -1
    $3 cav_un_auth*0234460 $a Kment $b Štěpán $i Vlnové a částicové šíření světla, optické technologie a materiály $j Wave and corpuscular light propagation, optical technologies and materials $p FZU-D $w Low-Temperature Plasma $4 070 $T Fyzikální ústav AV ČR, v. v. i.
    701
    -1
    $3 cav_un_auth*0278325 $a Lukašík $b P. $y CZ $4 070
    701
    -1
    $3 cav_un_auth*0098251 $a Olejníček $b Jiří $i Vlnové a částicové šíření světla, optické technologie a materiály $j Wave and corpuscular light propagation, optical technologies and materials $p FZU-D $w Low-Temperature Plasma $4 070 $T Fyzikální ústav AV ČR, v. v. i.
    701
    -1
    $3 cav_un_auth*0278326 $a Piják $b A. $y CZ $4 070
Počet záznamů: 1  

  Tyto stránky využívají soubory cookies, které usnadňují jejich prohlížení. Další informace o tom jak používáme cookies.