Počet záznamů: 1
Automatizovaný systém kontroly průtoků pracovních plynů v MW plazmovém systému PLASMASTR02 s proudícími plazmovými kanály
SYS 0390208 LBL 03504^^^^^2200577^^^450 005 20240103202314.3 100 $a 20130305d m y slo 03 ba 101 0-
$a cze 102 $a CZ 200 1-
$a Automatizovaný systém kontroly průtoků pracovních plynů v MW plazmovém systému PLASMASTR02 s proudícími plazmovými kanály 210 $d 2012 541 1-
$a Automatic system of mass flow control of working gasses in MW plasma system PLASMASTR02 with plasma jet channels $z eng 610 0-
$a microwave 610 0-
$a surfatron 610 0-
$a thin films 610 0-
$a vacuum reactor 610 0-
$a plasma 610 0-
$a deposition 610 0-
$a plasma jet 610 0-
$a flowmeter 700 -1
$3 cav_un_auth*0278316 $a Šmíd $b Jiří $i Vlnové a částicové šíření světla, optické technologie a materiály $j Wave and corpuscular light propagation, optical technologies and materials $p FZU-D $4 070 $T Fyzikální ústav AV ČR, v. v. i. 701 -1
$3 cav_un_auth*0098251 $a Olejníček $b Jiří $i Vlnové a částicové šíření světla, optické technologie a materiály $j Wave and corpuscular light propagation, optical technologies and materials $p FZU-D $w Low-Temperature Plasma $4 070 $T Fyzikální ústav AV ČR, v. v. i. 701 -1
$3 cav_un_auth*0278325 $a Lukašík $b P. $y CZ $4 070 701 -1
$3 cav_un_auth*0278326 $a Piják $b A. $y CZ $4 070 701 -1
$3 cav_un_auth*0061624 $a Dolák $b J. $y CZ $4 070 701 -1
$3 cav_un_auth*0040723 $a Martinek $b P. $y CZ $4 070 701 -1
$3 cav_un_auth*0278327 $a Pitrun $b J. $y CZ $4 070 701 -1
$3 cav_un_auth*0278328 $a Rek $b Š. $y CZ $4 070 701 -1
$3 cav_un_auth*0076330 $a Konečný $b L. $y CZ $4 070 701 -1
$3 cav_un_auth*0278329 $a Mareš $b G. $y CZ $4 070 701 -1
$3 cav_un_auth*0078161 $a Štepánek $b J. $y CZ $4 070 701 -1
$3 cav_un_auth*0085308 $a Jakeš $b J. $y CZ $4 070 701 -1
$3 cav_un_auth*0278330 $a Křenek $b Z. $y CZ $4 070 701 -1
$3 cav_un_auth*0278331 $a Joštic $b M. $y CZ $4 070 701 -1
$3 cav_un_auth*0100168 $a Čada $b Martin $i Vlnové a částicové šíření světla, optické technologie a materiály $j Wave and corpuscular light propagation, optical technologies and materials $p FZU-D $w Low-Temperature Plasma $4 070 $T Fyzikální ústav AV ČR, v. v. i. 701 -1
$3 cav_un_auth*0234460 $a Kment $b Štěpán $i Vlnové a částicové šíření světla, optické technologie a materiály $j Wave and corpuscular light propagation, optical technologies and materials $p FZU-D $w Low-Temperature Plasma $4 070 $T Fyzikální ústav AV ČR, v. v. i. 701 -1
$3 cav_un_auth*0236882 $a Straňák $b Vítězslav $i Vlnové a částicové šíření světla, optické technologie a materiály $j Wave and corpuscular light propagation, optical technologies and materials $p FZU-D $w Low-Temperature Plasma $4 070 $T Fyzikální ústav AV ČR, v. v. i. 701 -1
$3 cav_un_auth*0100245 $a Hubička $b Zdeněk $i Vlnové a částicové šíření světla, optické technologie a materiály $j Wave and corpuscular light propagation, optical technologies and materials $p FZU-D $w Low-Temperature Plasma $4 070 $T Fyzikální ústav AV ČR, v. v. i. 701 -1
$3 cav_un_auth*0247344 $a Babchenko $b Oleg $i Optické materiály $j Optical Materials $p FZU-D $4 070 $T Fyzikální ústav AV ČR, v. v. i. 701 -1
$3 cav_un_auth*0100328 $a Kromka $b Alexander $i Optické materiály $j Optical Materials $p FZU-D $w Optical Materials $4 070 $T Fyzikální ústav AV ČR, v. v. i. 701 -1
$3 cav_un_auth*0224392 $a Potocký $b Štěpán $i Optické materiály $j Optical Materials $p FZU-D $w Optical Materials $4 070 $T Fyzikální ústav AV ČR, v. v. i.
Počet záznamů: 1