Počet záznamů: 1
Size-controlled formation of Cu nanoclusters in pulsed magnetron sputtering system
SYS 0367262 LBL 02538^^^^^2200409^^^450 005 20240103195839.8 014 $a 000286905100009 $2 WOS 017 $a 10.1016/j.surfcoat.2010.10.030 $2 DOI 100 $a 20111121d m y slo 03 ba 101 0-
$a eng 102 $a CH 200 1-
$a Size-controlled formation of Cu nanoclusters in pulsed magnetron sputtering system 215 $a 8 s. 463 -1
$1 001 cav_un_epca*0257628 $1 011 $a 0257-8972 $1 200 1 $a Surface and Coatings Technology $v Roč. 205, 8-9 (2011), s. 2755-2762 $1 210 $c Elsevier 610 0-
$a Cu cluster growth 610 0-
$a pulsed magnetron sputtering 610 0-
$a cluster mass- and size- distribution 610 0-
$a AFM 700 -1
$3 cav_un_auth*0272069 $a Straňák $b V. $y DE $4 070 701 -1
$3 cav_un_auth*0257506 $a Block $b S. $y DE $4 070 701 -1
$3 cav_un_auth*0272070 $a Drache $b S. $y DE $4 070 701 -1
$3 cav_un_auth*0100245 $a Hubička $b Zdeněk $i Vlnové a částicové šíření světla, optické technologie a materiály $j Wave and corpuscular light propagation, optical technologies and materials $p FZU-D $w Low-Temperature Plasma $4 070 $T Fyzikální ústav AV ČR, v. v. i. 701 -1
$3 cav_un_auth*0257509 $a Helm $b Ch.A. $y DE $4 070 701 -1
$3 cav_un_auth*0100259 $a Jastrabík $b Lubomír $i Vlnové a částicové šíření světla, optické technologie a materiály $j Wave and corpuscular light propagation, optical technologies and materials $p FZU-D $w Low-Temperature Plasma $4 070 $T Fyzikální ústav AV ČR, v. v. i. 701 -1
$3 cav_un_auth*0014958 $a Tichý $b M. $y CZ $4 070 701 -1
$3 cav_un_auth*0224595 $a Hippler $b R. $y DE $4 070
Počet záznamů: 1