Počet záznamů: 1
Time-resolved plasma parameters in the HiPIMS discharge with Ti target in Ar/O2 atmosphere
SYS 0364640 LBL 02355^^^^^2200385^^^450 005 20240103195550.3 014 $a 000293258600068 $2 WOS 017 $a 10.1016/j.surfcoat.2010.11.050 $2 DOI 100 $a 20110929d m y slo 03 ba 101 0-
$a eng 102 $a CH 200 1-
$a Time-resolved plasma parameters in the HiPIMS discharge with Ti target in Ar/O2 atmosphere 215 $a 4 s. 463 -1
$1 001 cav_un_epca*0257628 $1 011 $a 0257-8972 $1 200 1 $a Surface and Coatings Technology $v Roč. 205, č. 2 (2011), S317-S321 $1 210 $c Elsevier 610 0-
$a HiPIMS 610 0-
$a Langmuir probe 610 0-
$a ion flux 610 0-
$a reactive sputtering 700 -1
$3 cav_un_auth*0100168 $a Čada $b Martin $i Vlnové a částicové šíření světla, optické technologie a materiály $j Wave and corpuscular light propagation, optical technologies and materials $p FZU-D $w Low-Temperature Plasma $4 070 $T Fyzikální ústav AV ČR, v. v. i. 701 -1
$3 cav_un_auth*0100245 $a Hubička $b Zdeněk $i Vlnové a částicové šíření světla, optické technologie a materiály $j Wave and corpuscular light propagation, optical technologies and materials $p FZU-D $w Low-Temperature Plasma $4 070 $T Fyzikální ústav AV ČR, v. v. i. 701 -1
$3 cav_un_auth*0236881 $a Adámek $b Petr $i Vlnové a částicové šíření světla, optické technologie a materiály $j Wave and corpuscular light propagation, optical technologies and materials $p FZU-D $w Low-Temperature Plasma $4 070 $T Fyzikální ústav AV ČR, v. v. i. 701 -1
$3 cav_un_auth*0256705 $a Klusoň $b Jan $i Vlnové a částicové šíření světla, optické technologie a materiály $j Wave and corpuscular light propagation, optical technologies and materials $p FZU-D $4 070 $T Fyzikální ústav AV ČR, v. v. i. 701 -1
$3 cav_un_auth*0100259 $a Jastrabík $b Lubomír $i Vlnové a částicové šíření světla, optické technologie a materiály $j Wave and corpuscular light propagation, optical technologies and materials $p FZU-D $w Low-Temperature Plasma $4 070 $T Fyzikální ústav AV ČR, v. v. i.
Počet záznamů: 1