Počet záznamů: 1
Mechanical and tribological properties of coatings sputtered from SiC target in the presence of CH.sub.4./sub. gas
SYS 0359397 LBL 02411^^^^^2200361^^^450 005 20240103195147.0 014 $a 000287906900005 $2 WOS 017 $a 10.1016/j.surfcoat.2010.11.057 $2 DOI 100 $a 20110509d m y slo 03 ba 101 0-
$a eng 102 $a CH 200 1-
$a Mechanical and tribological properties of coatings sputtered from SiC target in the presence of CH4 gas 215 $a 6 s. 463 -1
$1 001 cav_un_epca*0257628 $1 011 $a 0257-8972 $1 200 1 $a Surface and Coatings Technology $v Roč. 205, č. 11 (2011), s. 3372-3376 $1 210 $c Elsevier 610 0-
$a amorphous SiC films 610 0-
$a sputtering 610 0-
$a hardness 610 0-
$a coefficient of friction 610 0-
$a Raman spectra 700 -1
$3 cav_un_auth*0100339 $a Kulykovskyy $b Valeriy $i Vlnové a částicové šíření světla, optické technologie a materiály $j Wave and corpuscular light propagation, optical technologies and materials $p FZU-D $4 070 $T Fyzikální ústav AV ČR, v. v. i. 701 -1
$3 cav_un_auth*0100614 $a Vorlíček $b Vladimír $i Spektroskopie strukturních fázových přechodů $j Advanced and nanostructured dielectric materials $p FZU-D $4 070 $T Fyzikální ústav AV ČR, v. v. i. 701 -1
$3 cav_un_auth*0107785 $a Čtvrtlík $b Radim $i Vlnové a částicové šíření světla, optické technologie a materiály $j Wave and corpuscular light propagation, optical technologies and materials $p FZU-D $w Classical and Quantum Optics $4 070 $T Fyzikální ústav AV ČR, v. v. i. 701 -1
$3 cav_un_auth*0100140 $a Boháč $b Petr $i Vlnové a částicové šíření světla, optické technologie a materiály $j Wave and corpuscular light propagation, optical technologies and materials $p FZU-D $w Low-Temperature Plasma $4 070 $T Fyzikální ústav AV ČR, v. v. i. 701 -1
$3 cav_un_auth*0203349 $a Suchánek $b J. $y CZ $4 070 701 -1
$3 cav_un_auth*0221075 $a Bláhová $b O. $y CZ $4 070 701 -1
$3 cav_un_auth*0100259 $a Jastrabík $b Lubomír $i Vlnové a částicové šíření světla, optické technologie a materiály $j Wave and corpuscular light propagation, optical technologies and materials $p FZU-D $w Low-Temperature Plasma $4 070 $T Fyzikální ústav AV ČR, v. v. i.
Počet záznamů: 1