Počet záznamů: 1
Time-resolved investigation of dual high power impulse magnetronsputtering with closed magnetic field during deposition of Ti–Cu thin films
SYS 0357100 LBL 02700^^^^^2200409^^^450 005 20240103194926.6 014 $a 000281857100027 $2 WOS 017 $a 10.1063/1.3467001 $2 DOI 100 $a 20110308d m y slo 03 ba 101 0-
$a eng 102 $a US 200 1-
$a Time-resolved investigation of dual high power impulse magnetronsputtering with closed magnetic field during deposition of Ti–Cu thin films 215 $a 8 s. 463 -1
$1 001 cav_un_epca*0256872 $1 011 $a 0021-8979 $e 1089-7550 $1 200 1 $a Journal of Applied Physics $v Roč. 108, č. 4 (2010), 043305/1-043305/8 $1 210 $c AIP Publishing 610 0-
$a Langmuir probes 610 0-
$a magnetrons 610 0-
$a metallic thin films 610 0-
$a plasma density 610 0-
$a sputter deposition 610 0-
$a time resolved spectra 700 -1
$3 cav_un_auth*0236882 $a Straňák $b Vítězslav $i Vlnové a částicové šíření světla, optické technologie a materiály $j Wave and corpuscular light propagation, optical technologies and materials $p FZU-D $w Low-Temperature Plasma $x X $4 070 $T Fyzikální ústav AV ČR, v. v. i. 701 -1
$3 cav_un_auth*0100168 $a Čada $b Martin $i Vlnové a částicové šíření světla, optické technologie a materiály $j Wave and corpuscular light propagation, optical technologies and materials $p FZU-D $w Low-Temperature Plasma $z G $4 070 $T Fyzikální ústav AV ČR, v. v. i. 701 -1
$3 cav_un_auth*0100245 $a Hubička $b Zdeněk $i Vlnové a částicové šíření světla, optické technologie a materiály $j Wave and corpuscular light propagation, optical technologies and materials $p FZU-D $w Low-Temperature Plasma $4 070 $T Fyzikální ústav AV ČR, v. v. i. 701 -1
$3 cav_un_auth*0014958 $a Tichý $b M. $y CZ $4 070 701 -1
$3 cav_un_auth*0224595 $a Hippler $b R. $y DE $4 070 856 $u http://jap.aip.org/resource/1/japiau/v108/i4/p043305_s1
Počet záznamů: 1