Počet záznamů: 1
Comparison between chemical and plasmatic treatment of seeding layer for patterned diamond growth
SYS 0355161 LBL 02704^^^^^2200385^^^450 005 20240103194719.8 100 $a 20110202d m y slo 03 ba 101 0-
$a eng 102 $a US 200 1-
$a Comparison between chemical and plasmatic treatment of seeding layer for patterned diamond growth 215 $a 7 s. 463 -1
$1 001 cav_un_epca*0342753 $1 010 $a 978-1-60511-176-6 $1 200 1 $a Diamond Electronics and Bioelectronics - Fundamentals to Applications III $v S. 137-143 $1 210 $a Warrendale, PA $c Materials Research Society $d 2010 $1 225 $a MRS Symposium Proceedings $v Vol. 1203 $1 702 1 $a Bergonzo $b P. $4 340 $1 702 1 $a Butler $b J.E. $4 340 $1 702 1 $a Jackman $b R.B. $4 340 $1 702 1 $a Loh $b K.P. $4 340 $1 702 1 $a Nesladek $b M. $4 340 610 0-
$a diamond 610 0-
$a plasma-enhanced CVD (PECVD) (deposition) 610 0-
$a microstructure 700 -1
$3 cav_un_auth*0100328 $a Kromka $b Alexander $i Optické materiály $j Optical Materials $p FZU-D $w Optical Materials $4 070 $T Fyzikální ústav AV ČR, v. v. i. 701 -1
$3 cav_un_auth*0247344 $a Babchenko $b Oleg $i Optické materiály $j Optical Materials $p FZU-D $4 070 $T Fyzikální ústav AV ČR, v. v. i. 701 -1
$3 cav_un_auth*0100487 $a Rezek $b Bohuslav $i Tenké vrstvy a nanostruktury $j Thin Films and Nanostructures $p FZU-D $w Thin Films and Nanostructures $4 070 $T Fyzikální ústav AV ČR, v. v. i. 701 -1
$3 cav_un_auth*0247345 $a Hruška $b Karel $i Spintronika a nanoelektronika $j Spintronics and Nanoelectronics $p FZU-D $4 070 $T Fyzikální ústav AV ČR, v. v. i. 701 -1
$3 cav_un_auth*0269443 $a Purkrt $b A. $y CZ $4 070 701 -1
$3 cav_un_auth*0100485 $a Remeš $b Zdeněk $i Optické materiály $j Optical Materials $p FZU-D $w Optical Materials $4 070 $T Fyzikální ústav AV ČR, v. v. i. 856 $u http://dx.doi.org/10.1557/PROC-1203-J17-53
Počet záznamů: 1