Počet záznamů: 1
Determination of proximity effect forward scattering range parameter in e-beam lithography
SYS 0350671 LBL 02070^^^^^2200313^^^450 005 20240111140748.0 014 $a 000290773700026 $2 WOS 100 $a 20101202d m y slo 03 ba 101 0-
$a eng 102 $a CZ 200 1-
$a Determination of proximity effect forward scattering range parameter in e-beam lithography 215 $a 2 s. 463 -1
$1 001 cav_un_epca*0350656 $1 010 $a 978-80-254-6842-5 $1 200 1 $a Proceedings of the 12th International Seminar on Recent Trends in Charged Particle Optics and Surface Physics Instrumentation $v S. 67-68 $1 210 $a Brno $c Institute of Scientific Instruments AS CR, v.v.i $d 2010 $1 702 1 $a Mika $b F. $4 340 610 0-
$a electron beam lithography 610 0-
$a proximity effect 700 -1
$3 cav_un_auth*0223246 $a Urbánek $b Michal $i D2: Speciální technologie $j D2: New Technologies $p UPT-D $w New Technologies $4 070 $T Ústav přístrojové techniky AV ČR, v. v. i. 701 -1
$3 cav_un_auth*0101578 $a Kolařík $b Vladimír $i D2: Speciální technologie $j D2: New Technologies $p UPT-D $w New Technologies $4 070 $T Ústav přístrojové techniky AV ČR, v. v. i. 701 -1
$3 cav_un_auth*0258661 $a Král $b Stanislav $i D2: Speciální technologie $j D2: New Technologies $p UPT-D $4 070 $T Ústav přístrojové techniky AV ČR, v. v. i. 701 -1
$3 cav_un_auth*0244353 $a Dvořáková $b Marie $i D2: Speciální technologie $j D2: New Technologies $p UPT-D $4 070 $T Ústav přístrojové techniky AV ČR, v. v. i.
Počet záznamů: 1