Počet záznamů: 1
Mapping of dopants by electron injection
SYS 0350658 LBL 01875^^^^^2200325^^^450 005 20240111140747.9 014 $a 000290773700004 $2 WOS 100 $a 20101201d m y slo 03 ba 101 0-
$a eng 102 $a CZ 200 1-
$a Mapping of dopants by electron injection 215 $a 2 s. 463 -1
$1 001 cav_un_epca*0350656 $1 010 $a 978-80-254-6842-5 $1 200 1 $a Proceedings of the 12th International Seminar on Recent Trends in Charged Particle Optics and Surface Physics Instrumentation $v S. 15-16 $1 210 $a Brno $c Institute of Scientific Instruments AS CR, v.v.i $d 2010 $1 702 1 $a Mika $b F. $4 340 610 0-
$a silicon structures 610 0-
$a secondary electron emission 610 0-
$a very low energy range 610 0-
$a mapping dopants 700 -1
$3 cav_un_auth*0052204 $a Hovorka $b Miloš $i D1: Elektronová mikroskopie $j D1: Electron Microscopy $p UPT-D $4 070 $T Ústav přístrojové techniky AV ČR, v. v. i. 701 -1
$3 cav_un_auth*0101580 $a Konvalina $b Ivo $i D1: Elektronová mikroskopie $j D1: Electron Microscopy $p UPT-D $w Electron Microscopy $4 070 $T Ústav přístrojové techniky AV ČR, v. v. i. 701 -1
$3 cav_un_auth*0101547 $a Frank $b Luděk $i D1: Elektronová mikroskopie $j D1: Electron Microscopy $p UPT-D $w Electron Microscopy $4 070 $T Ústav přístrojové techniky AV ČR, v. v. i.
Počet záznamů: 1