Počet záznamů: 1
High hydrogen dilution and low substrate temperature cause columnar growth of hydrogenated amorphous silicon
SYS 0347839 LBL 02075^^^^^2200349^^^450 005 20240103193926.8 014 $a 000276339800005 $2 WOS 017 $a 10.1002/pssa.200982847 $2 DOI 100 $a 20101004d m y slo 03 ba 101 0-
$a eng 102 $a DE 200 1-
$a High hydrogen dilution and low substrate temperature cause columnar growth of hydrogenated amorphous silicon 215 $a 5 s. 463 -1
$1 001 cav_un_epca*0043977 $1 011 $a 1862-6300 $e 1862-6319 $1 200 1 $a Physica Status Solidi A $e Applications and Materials Science $v Roč. 207, č. 3 (2010), s. 525-529 $1 210 $c Wiley 610 0-
$a hydrogenated amorphous silicon 610 0-
$a columnar growth 610 0-
$a cross-sectional transmission electron microscope (X-TEM] 700 -1
$3 cav_un_auth*0216306 $a Bronsveld $b P.C.P. $y NL $4 070 701 -1
$3 cav_un_auth*0100379 $a Mates $b Tomáš $i Tenké vrstvy a nanostruktury $j Thin Films and Nanostructures $p FZU-D $4 070 $T Fyzikální ústav AV ČR, v. v. i. 701 -1
$3 cav_un_auth*0100196 $a Fejfar $b Antonín $i Tenké vrstvy a nanostruktury $j Thin Films and Nanostructures $p FZU-D $w Thin Films and Nanostructures $4 070 $T Fyzikální ústav AV ČR, v. v. i. 701 -1
$3 cav_un_auth*0100295 $a Kočka $b Jan $i Tenké vrstvy a nanostruktury $j Thin Films and Nanostructures $p FZU-D $w Thin Films and Nanostructures $4 070 $T Fyzikální ústav AV ČR, v. v. i. 701 -1
$3 cav_un_auth*0216307 $a Rath $b J.K. $y NL $4 070 701 -1
$3 cav_un_auth*0216308 $a Schropp $b R.E.I. $y NL $4 070 856 $u http://dx.doi.org/10.1002/pssa.200982847
Počet záznamů: 1