Počet záznamů: 1
Double hollow cathode plasma jet-low temperature method for the TiO.sub.2-x./sub.N.sub.x./sub. photoresponding films
SYS 0346487 LBL 02342^^^^^2200409^^^450 005 20240103193754.3 014 $a 000275596900008 $2 WOS 017 $a 10.1016/j.electacta.2009.10.017 $2 DOI 100 $a 20100826d m y slo 03 ba 101 0-
$a eng 102 $a GB 200 1-
$a Double hollow cathode plasma jet-low temperature method for the TiO2-xNx photoresponding films 215 $a 9 s. 463 -1
$1 001 cav_un_epca*0256518 $1 011 $a 0013-4686 $e 1873-3859 $1 200 1 $a Electrochimica acta $v Roč. 55, č. 5 (2010), s. 1548-1556 $1 210 $c Elsevier 610 0-
$a TiO 610 0-
$a plasma jets 700 -1
$3 cav_un_auth*0234460 $a Kment $b Štěpán $i Vlnové a částicové šíření světla, optické technologie a materiály $j Wave and corpuscular light propagation, optical technologies and materials $p FZU-D $w Low-Temperature Plasma $4 070 $T Fyzikální ústav AV ČR, v. v. i. 701 -1
$3 cav_un_auth*0242338 $a Klusoň $b Petr $i Oddělení katalýzy a reakčního inženýrství $j Department of Catalysis and Reaction Engineering $p UCHP-M $w Department of Catalysis and Reaction Engineering $4 070 $T Ústav chemických procesů AV ČR, v. v. i. 701 -1
$3 cav_un_auth*0100245 $a Hubička $b Zdeněk $i Vlnové a částicové šíření světla, optické technologie a materiály $j Wave and corpuscular light propagation, optical technologies and materials $p FZU-D $w Low-Temperature Plasma $4 070 $T Fyzikální ústav AV ČR, v. v. i. 701 -1
$3 cav_un_auth*0015740 $a Krýsa $b J. $y CZ $4 070 701 -1
$3 cav_un_auth*0100168 $a Čada $b Martin $i Vlnové a částicové šíření světla, optické technologie a materiály $j Wave and corpuscular light propagation, optical technologies and materials $p FZU-D $w Low-Temperature Plasma $4 070 $T Fyzikální ústav AV ČR, v. v. i. 701 -1
$3 cav_un_auth*0100214 $a Gregora $b Ivan $i Spektroskopie strukturních fázových přechodů $j Advanced and nanostructured dielectric materials $p FZU-D $w Dielectrics $4 070 $T Fyzikální ústav AV ČR, v. v. i. 701 -1
$3 cav_un_auth*0108363 $a Deyneka $b Alexander $i Vlnové a částicové šíření světla, optické technologie a materiály $j Wave and corpuscular light propagation, optical technologies and materials $p FZU-D $w Optical and Biophysical Systems $4 070 $T Fyzikální ústav AV ČR, v. v. i. 701 -1
$3 cav_un_auth*0100485 $a Remeš $b Zdeněk $i Optické materiály $j Optical Materials $p FZU-D $w Optical Materials $4 070 $T Fyzikální ústav AV ČR, v. v. i. 701 -1
$3 cav_un_auth*0236239 $a Žabová $b Hana $i Laboratoř procesů ochrany prostředí $j Environmental Process Engineering Laboratory $p UCHP-M $4 070 $T Ústav chemických procesů AV ČR, v. v. i. 701 -1
$3 cav_un_auth*0100259 $a Jastrabík $b Lubomír $i Vlnové a částicové šíření světla, optické technologie a materiály $j Wave and corpuscular light propagation, optical technologies and materials $p FZU-D $w Low-Temperature Plasma $4 070 $T Fyzikální ústav AV ČR, v. v. i.
Počet záznamů: 1