Počet záznamů: 1
Comparative study of total power density at a substrate in pulsed DC magnetron and hollow-cathode plasma jet sputtering systems
SYS 0335019 LBL 02899^^^^^2200373^^^450 005 20240103192648.6 014 $a 000272302900050 $2 WOS 017 $a 10.1002/ppap.200930611 $2 DOI 100 $a 20100107d m y slo 03 ba 101 0-
$a eng 102 $a DE 200 1-
$a Comparative study of total power density at a substrate in pulsed DC magnetron and hollow-cathode plasma jet sputtering systems 215 $a 6 s. 463 -1
$1 001 cav_un_epca*0420447 $1 011 $a 1612-8850 $e 1612-8869 $1 200 1 $a Plasma Processes and Polymers $v Roč. 6, S1 (2009), S247-S252 $1 210 $c Wiley 541 1-
$a Porovnávací studie celkové výkonové hustoty na substrát v pulzním DC magnetronovém výboji a v plazma-jetu s dutou katodou $z cze 610 0-
$a calorimeter probe 610 0-
$a floating substrate 610 0-
$a magnetron 610 0-
$a plasma jet 610 0-
$a pulsed discharge 700 -1
$3 cav_un_auth*0100168 $a Čada $b Martin $i Vlnové a částicové šíření světla, optické technologie a materiály $j Wave and corpuscular light propagation, optical technologies and materials $p FZU-D $w Low-Temperature Plasma $4 070 $T Fyzikální ústav AV ČR, v. v. i. 701 -1
$3 cav_un_auth*0098250 $a Virostko $b Petr $i Vlnové a částicové šíření světla, optické technologie a materiály $j Wave and corpuscular light propagation, optical technologies and materials $p FZU-D $4 070 $T Fyzikální ústav AV ČR, v. v. i. 701 -1
$3 cav_un_auth*0234460 $a Kment $b Štěpán $i Vlnové a částicové šíření světla, optické technologie a materiály $j Wave and corpuscular light propagation, optical technologies and materials $p FZU-D $w Low-Temperature Plasma $4 070 $T Fyzikální ústav AV ČR, v. v. i. 701 -1
$3 cav_un_auth*0100245 $a Hubička $b Zdeněk $i Vlnové a částicové šíření světla, optické technologie a materiály $j Wave and corpuscular light propagation, optical technologies and materials $p FZU-D $w Low-Temperature Plasma $4 070 $T Fyzikální ústav AV ČR, v. v. i.
Počet záznamů: 1