Počet záznamů: 1
Physical properties of homogeneous TiO.sub.2./sub. films prepared by high power impulse magnetron sputtering as a function of crystallographic phase and nanostructure
SYS 0334335 LBL 03332^^^^^2200433^^^450 005 20240103192602.9 014 $a 000265677400036 $2 WOS 017 $a 10.1088/0022-3727/42/10/105204 $2 DOI 100 $a 20091223d m y slo 03 ba 101 0-
$a eng 102 $a GB 200 1-
$a Physical properties of homogeneous TiO2 films prepared by high power impulse magnetron sputtering as a function of crystallographic phase and nanostructure 215 $a 12 s. 463 -1
$1 001 cav_un_epca*0257167 $1 011 $a 0022-3727 $e 1361-6463 $1 200 1 $a Journal of Physics D-Applied Physics $v Roč. 42, č. 10 (2009), 105204/1-105204/12 $1 210 $c Institute of Physics Publishing 541 1-
$a Fyzikální vlastnosti homogenních TiO2 vrstev připravovaných pomocí vysokovýkonového pulzního magnetronového odprašování v závislosti na krystalografické fázi a nanostruktuře $z cze 610 0-
$a TiO2 610 0-
$a high power magnteron sputtering 610 0-
$a plasma diagnostic 610 0-
$a film diagnostic 700 -1
$3 cav_un_auth*0236882 $a Straňák $b Vítězslav $p FZU-D $w Low-Temperature Plasma $4 070 $T Fyzikální ústav AV ČR, v. v. i. 701 -1
$3 cav_un_auth*0100168 $a Čada $b Martin $p FZU-D $w Low-Temperature Plasma $4 070 $T Fyzikální ústav AV ČR, v. v. i. 701 -1
$3 cav_un_auth*0257505 $a Quaas $b M. $y DE $4 070 701 -1
$3 cav_un_auth*0257506 $a Block $b S. $y DE $4 070 701 -1
$3 cav_un_auth*0257507 $a Bogdanowicz $b R. $y PL $4 070 701 -1
$3 cav_un_auth*0234460 $a Kment $b Štěpán $p FZU-D $w Low-Temperature Plasma $4 070 $T Fyzikální ústav AV ČR, v. v. i. 701 -1
$3 cav_un_auth*0257508 $a Wulff $b H. $y DE $4 070 701 -1
$3 cav_un_auth*0100245 $a Hubička $b Zdeněk $p FZU-D $w Low-Temperature Plasma $4 070 $T Fyzikální ústav AV ČR, v. v. i. 701 -1
$3 cav_un_auth*0257509 $a Helm $b Ch.A. $y DE $4 070 701 -1
$3 cav_un_auth*0014958 $a Tichý $b M. $y CZ $4 070 701 -1
$3 cav_un_auth*0224595 $a Hippler $b R. $y DE $4 070
Počet záznamů: 1