Počet záznamů: 1
Deposition of SiC thin films using pulsed sputtering of a hollow cathode
SYS 0331189 LBL 01499^^^^^2200313^^^450 005 20240103192251.6 100 $a 20100208d m y slo 03 ba 101 0-
$a eng 102 $a US 200 1-
$a Deposition of SiC thin films using pulsed sputtering of a hollow cathode 215 $a 4 s. 463 -1
$1 001 cav_un_epca*0331188 $1 011 $a 1934-8959 $1 200 1 $a Journal of Materials Science and Engineering $v Roč. 3, č. 8 (2009), s. 1-4 541 1-
$a Depozice SiC tenkých vrstev pomocí pulzního rozprašování duté katody $z cze 610 0-
$a hollow cathode 610 0-
$a pulsed sputtering 610 0-
$a 4H SiC 700 -1
$3 cav_un_auth*0039495 $a Soukup $b R. J. $y US $4 070 701 -1
$3 cav_un_auth*0201402 $a Ianno $b N.J. $y US $4 070 701 -1
$3 cav_un_auth*0255508 $a Huguenin-Love $b J.L. $y US $4 070 701 -1
$3 cav_un_auth*0255509 $a Lauer $b N.T. $y US $4 070 701 -1
$3 cav_un_auth*0100245 $a Hubička $b Zdeněk $p FZU-D $w Low-Temperature Plasma $4 070 $T Fyzikální ústav AV ČR, v. v. i.
Počet záznamů: 1