Počet záznamů: 1  

The structure and growth mechanism of Si nanoneedles prepared by plasma-enhanced chemical vapor deposition

  1. 1.
    ČERVENKA, J., LEDINSKÝ, M., STUCHLÍK, J., STUCHLÍKOVÁ, T.-H., BAKARDJIEVA, S., HRUŠKA, K., FEJFAR, A., KOČKA, J. The structure and growth mechanism of Si nanoneedles prepared by plasma-enhanced chemical vapor deposition. Nanotechnology. 2010, 21(41), 415604/1-415604/7. ISSN 0957-4484. E-ISSN 1361-6528. Dostupné z: doi: 10.1088/0957-4484/21/41/415604
Počet záznamů: 1  

  Tyto stránky využívají soubory cookies, které usnadňují jejich prohlížení. Další informace o tom jak používáme cookies.