- Porous pseudo-substrates for InGaN quantum well growth: Morphology, s…
Počet záznamů: 1  

Porous pseudo-substrates for InGaN quantum well growth: Morphology, structure, and strain relaxation

  1. 1.
    SYSNO0576333
    TitlePorous pseudo-substrates for InGaN quantum well growth: Morphology, structure, and strain relaxation
    Author(s) Ji, Y. (GB)
    Frentrup, M. (GB)
    Zhang, X. (GB)
    Pongrácz, Jakub (UFM-A) ORCID
    Fairclough, S. M. (GB)
    Liu, Y. (GB)
    Zhu, T. (GB)
    Oliver, Rachel A. (GB)
    Source Title Journal of Applied Physics. Roč. 134, č. 14 (2023). - : AIP Publishing
    Article number145102
    Document TypeČlánek v odborném periodiku
    Institutional supportUFM-A - RVO:68081723
    Languageeng
    CountryUS
    Keywords InGaN * MQW * porosification * AFM * XRD * strain relaxation
    Cooperating institutions Vysoké učení technické v Brně (Czech Republic)
    URLhttps://pubs.aip.org/aip/jap/article/134/14/145102/2916034/Porous-pseudo-substrates-for-InGaN-quantum-well
    Permanent Linkhttps://hdl.handle.net/11104/0345962
     
Počet záznamů: 1  

Metadata v repozitáři ASEP jsou licencována pod licencí CC0.

  Tyto stránky využívají soubory cookies, které usnadňují jejich prohlížení. Další informace o tom jak používáme cookies.