Počet záznamů: 1
Al.sub.2./sub.O.sub.3./sub. and Pt atomic layer deposition for surface modification of NiTi shape memory films
- 1.
SYSNO ASEP 0538662 Druh ASEP J - Článek v odborném periodiku Zařazení RIV J - Článek v odborném periodiku Poddruh J Článek ve WOS Název Al2O3 and Pt atomic layer deposition for surface modification of NiTi shape memory films Tvůrce(i) Vokoun, David (FZU-D) RID, ORCID
Klimša, Ladislav (FZU-D) ORCID
Vetushka, Aliaksi (FZU-D) RID, ORCID
Duchoň, Jan (FZU-D) ORCID, RID
Racek, Jan (FZU-D) RID, ORCID
Drahokoupil, Jan (FZU-D) RID, ORCID
Kopeček, Jaromír (FZU-D) RID, ORCID
Yu, Y.-S. (TW)
Koothan, N. (TW)
Kei, C.C. (TW)Celkový počet autorů 10 Číslo článku 746 Zdroj.dok. Coatings. - : MDPI
Roč. 10, č. 8 (2020), s. 1-14Poč.str. 14 s. Jazyk dok. eng - angličtina Země vyd. CH - Švýcarsko Klíč. slova NiTi alloy ; atomic layer deposition ; thin film ; Pt nanoparticles Vědní obor RIV JG - Hutnictví, kovové materiály Obor OECD Materials engineering CEP EF16_019/0000760 GA MŠMT - Ministerstvo školství, mládeže a tělovýchovy Způsob publikování Open access Institucionální podpora FZU-D - RVO:68378271 UT WOS 000565534100001 EID SCOPUS 85089684494 DOI 10.3390/coatings10080746 Anotace Pt coatings on NiTi films can add some useful properties, e.g., they may improve the NiTi anticorrosion and thermomechanical characteristics or activate surface properties beneficial for a specific application. Pt coatings prepared via atomic layer deposition (ALD) may help reduce cost due to the nanometric thickness. No authors have reported preparation of Pt ALD coatings on NiTi films, perhaps due to the challenge of the concurrent NiTi film oxidation during the Pt ALD process. In the present study, Al2O3 and Pt ALD coatings were applied to NiTi thin films. The ALD coating properties were studied using electron and atomic force microscopies and X-ray photoelectron spectroscopy (XPS). Potential structural changes of NiTi due to the ALD process were evaluated using electron microscopy and X-ray diffraction. The presented ALD process resulted in controllable preparation of Pt nanoparticles on ultrathin Al2O3 layer and a change of the transformation temperatures of the NiTi films Pracoviště Fyzikální ústav Kontakt Kristina Potocká, potocka@fzu.cz, Tel.: 220 318 579 Rok sběru 2021 Elektronická adresa http://hdl.handle.net/11104/0316416
Počet záznamů: 1