Počet záznamů: 1
Nanosphere lithography for structuring polycrystalline diamond films
- 1.
SYSNO ASEP 0533915 Druh ASEP J - Článek v odborném periodiku Zařazení RIV J - Článek v odborném periodiku Poddruh J Článek ve WOS Název Nanosphere lithography for structuring polycrystalline diamond films Tvůrce(i) Domonkos, Mária (FZU-D) RID
Demo, Pavel (FZU-D) RID, SAI, ORCID
Kromka, Alexander (FZU-D) RID, ORCID, SAICelkový počet autorů 3 Číslo článku 118 Zdroj.dok. Crystals. - : MDPI - ISSN 2073-4352
Roč. 10, č. 2 (2020), s. 1-14Poč.str. 14 s. Jazyk dok. eng - angličtina Země vyd. CH - Švýcarsko Klíč. slova diamond thin films ; nanosphere lithography ; polystyrene spheres ; reactive ion etching Vědní obor RIV BH - Optika, masery a lasery Obor OECD Optics (including laser optics and quantum optics) CEP EF16_019/0000760 GA MŠMT - Ministerstvo školství, mládeže a tělovýchovy LM2018110 GA MŠMT - Ministerstvo školství, mládeže a tělovýchovy Způsob publikování Open access Institucionální podpora FZU-D - RVO:68378271 UT WOS 000519704700064 EID SCOPUS 85079621924 DOI https://doi.org/10.3390/cryst10020118 Anotace This paper deals with the structuring of polycrystalline diamond thin films using the technique of nanosphere lithography. The presented multistep approaches relied on a spin-coated self-assembled monolayer of polystyrene spheres, which served as a lithographic mask for the further custom nanofabrication steps. The size and shape of the lithographic mask was altered using oxygen plasma etching. The periodicity of the final structure was defined by the initial diameter of the spheres. The advantages and limitations of the fabrication technique are discussed. Finally, the potential applications (e.g., photonics, plasmonics) of the obtained nanostructures are reviewed.
Pracoviště Fyzikální ústav Kontakt Kristina Potocká, potocka@fzu.cz, Tel.: 220 318 579 Rok sběru 2021 Elektronická adresa http://hdl.handle.net/11104/0312141
Počet záznamů: 1